Разделы презентаций


ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ПРОЦЕССОВ И ЯВЛЕНИЙ, ЛЕЖАЩИЕ В ОСНОВЕ МЕТОДОВ ПОЛУЧЕНИЯ ИНФОРМАЦИИ О СТРУКТУРНЫХ ХАРАКТЕРИСТИКАХ МАТЕРИАЛОВ

Содержание

Классификация твёрдых тел по характеру взаимного расположения атомовСамый древний алмазКорунд: α- Al2O3кварц

Слайды и текст этой презентации

Слайд 1 ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ПРОЦЕССОВ И ЯВЛЕНИЙ, ЛЕЖАЩИЕ В ОСНОВЕ МЕТОДОВ ПОЛУЧЕНИЯ

ИНФОРМАЦИИ О СТРУКТУРНЫХ ХАРАКТЕРИСТИКАХ МАТЕРИАЛОВ

ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ПРОЦЕССОВ И ЯВЛЕНИЙ, ЛЕЖАЩИЕ В ОСНОВЕ

Слайд 2Классификация твёрдых тел по характеру
взаимного расположения атомов
Самый древний алмаз
Корунд:

α- Al2O3
кварц

Классификация твёрдых тел по характеру взаимного расположения атомовСамый древний алмазКорунд: α- Al2O3кварц

Слайд 31. Идеальные монокристаллы.

Элементарная ячейка кристаллов
со структурой типа NaCl

Сетки

графита Элементарная ячейка графита
а) Дальний порядок
в) Трансляционная

симметрия
1. Идеальные монокристаллы. Элементарная ячейка кристаллов со структурой типа NaClСетки графита    Элементарная ячейка 			графитаа)

Слайд 4Простейшие операции симметрии кристаллов
а — поворот;
б — отражение;
в

— инверсия;
г — инверсионный
поворот 4-го порядка;
д — винтовой


поворот 4-го порядка;
е — скользящее отражение.
Простейшие операции симметрии кристаллов а — поворот;б — отражение; в — инверсия;г — инверсионный поворот 4-го порядка;

Слайд 5Сингонии кристаллов и соответствующие им решетки Бравэ

Сингонии кристаллов и соответствующие им решетки Бравэ

Слайд 6Решётки Браве
Различают 4 типа решёток Браве :
1 - примитивные (

Р )
Р число атомов на эл. ячейку: 1;
координаты

000
Примитивные элементарные ячейки есть
в кристаллах любой сингонии

2 - объёмноцентрированные ( I )
I - число атомов на эл. ячейку: 2;
координаты 000 ; ½ ½ ½ :
появляется дополнительный
атом внутри ячейки
3 - гранецентрированные ( F )
F число атомов на эл. ячейку 4;
координаты 000 ; ½ ½ 0 ; ½ 0 ½ ; 0 ½ ½

4 - базоцентрированные ( С,B,A)
С число атомов на эл. ячейку: 2;
координаты 000 ; ½ ½ 0

C B A
Тип решётки Браве определяется из анализа рентгенограммы кристалла



Решётки БравеРазличают 4 типа решёток Браве :1 - примитивные ( Р )Р  число атомов на эл.

Слайд 9Полиморфные фазы диоксида кремния SiO2
Давление:

китит 80-130 МПа; коэсит 1.5-4 ГПа ; стишовит 16-18

ГПа.
Температура,°С: китит 400 – 500 ; коэсит 300 – 1700; стишовит 1200 – 1400.
Полиморфные фазы диоксида кремния SiO2Давление:      китит 80-130 МПа; коэсит  1.5-4 ГПа

Слайд 12
LaC82
Аллотропные формы углерода
Алмаз

ZnS

графит

лонсдейлит

С60

С70

С540

Аморфный углерод Нанотрубки: однослойная геликоидальная

LaC82Аллотропные формы углеродаАлмаз

Слайд 14
C60Br24
Нанотрубки из фуллерита С60
Димер из 2 молекул С60

C60Br24Нанотрубки из фуллерита С60Димер из 2 молекул С60

Слайд 15Применение нанотрубок
- транзистор на углеродной нанотрубке

Применение нанотрубок- транзистор на углеродной нанотрубке

Слайд 16Применение нанотрубок

Применение нанотрубок

Слайд 172. Монокристаллы с дефектами решетки – реальные монокристаллы.
а) Точечные

дефекты

Типы точечных дефектов:

1 - вакансия;
2 - межузельный атом;


3 - дефект Френкеля:
вакансия + атом в междоузлии;
4 - дефект Шоттки
вакансия + атом на поверхности
5 - примесный атом замещения;
6 - примесный атом внедрения;
7 – примесный атом замещения большей валентности
приводит к возникновению вакансии.


2. Монокристаллы с дефектами решетки – реальные монокристаллы. а) Точечные дефекты Типы точечных дефектов:1 - вакансия; 2

Слайд 18
Краевая дислокация представляет собой локализованное искажение кристаллической решетки, вызванное

наличием в ней лишней атомной полу-плоскости (экстраплоскости).
Если экстраплоскость находится

в верхней части кристалла, то дислокацию называют положительной и обозначают ⊥.
Если экстраплоскость находится в нижней части кристалла, то дислокацию называют отрицательной и обозначают .
В краевой дислокации линия дислокации OO’, отделяющая неподвижную область от сдвинутой, перпендикулярна вектору сдвига τ и вектору Бюргерса b.





Краевая дислокация. Экстраплоскость выделена зеленым цветом, а плоскость скольжения – синим.

б) Линейные дефекты - дислокации


Краевая дислокация представляет собой локализованное искажение кристаллической решетки, вызванное наличием в ней лишней атомной полу-плоскости (экстраплоскости).

Слайд 19 Винтовая дислокация в кристалле:


При образовании винтовой дислокации, линия дислокации (красная) параллельна вектору сдвига τ. Если представить кристалл состоящим из одной атомной плоскости, то винтовая дислокация будет подобна винтовой лестнице. Если винтовая дислокация образована по часовой стрелке, то ее называют правой, а если против часовой стрелки – левой.
Таким образом, и винтовая, и краевая дислокация – это границы между сдвинутой и несдвинутой частями кристалла.

Винтовая дислокация
b - вектор Бюргерса; экстраплоскость показана зеленым цветом


Винтовая дислокация в кристалле:

Слайд 20 в) Плоские дефекты
Малоугловые границы блоков: выстроенные в

стенки краевые дислокации













в) Плоские дефекты   					 Малоугловые границы блоков:    выстроенные в стенки

Слайд 21Г) Объемные дефекты: поры,
включения второй фазы

Г) Объемные дефекты: поры, 		включения второй фазы

Слайд 22 3. Поликристаллы Поликристалл состоит из множества реальных мелких монокристаллов
Дальний порядок существует

только в пределах одного зерна,

представляющего собой монокристалл.


3. Поликристаллы Поликристалл состоит из множества реальных мелких монокристаллов Дальний порядок существует только в пределах одного зерна,

Слайд 23 4. Аморфные материалы
В аморфных материалах

отсутствует дальний порядок (нет трансляционной симметрии),

но имеет место ближний порядок




4. Аморфные материалы  В аморфных материалах отсутствует дальний порядок (нет трансляционной симметрии),

Слайд 24
1913
1895
1927
1897
1932
1936
Дифракционные методы исследования
структурного состояния материалов
Кристаллы
берилла
Al2[Be3(Si6O18)]
X-ray–электромагнитные волны

e-
no
Рентгенография
Нейтронография
Электронография

191318951927189719321936Дифракционные методы исследования структурного состояния материаловКристаллыбериллаAl2[Be3(Si6O18)]X-ray–электромагнитные волныe-noРентгенографияНейтронографияЭлектронография

Слайд 25Спектры тормозного
излучения для разных
величин ускоряющего
напряжения трубки
Схема рентгеновской

трубки для структурного
анализа: 1 – металлический анодный стакан;
2 -

окна из бериллия для выхода рентгеновского
излучения; 3 -термоэмиссионный катод;
4 -стеклянная колба; 5 – выводы катода, к кото-
рым подводится напряжение накала, а также вы-сокое(относительно анода) напряжение; 6 электро-статическая система фокусировки электронов;
7 - анод; 8 - патрубки для охлаждающей системы.

Рис.1

Рис.3

Рис.2

Рентгеновская трубка
серии БСВ
для структурного
анализа

Спектры тормозного излучения для разныхвеличин ускоряющего напряжения трубки Схема рентгеновской трубки для структурногоанализа: 1 – металлический анодный

Слайд 26Рис.4
Схемы образования
спектральных линий
Характеристического
рентгеновского излучения.
Вид рентгеновских спектров
для трубок

с медным
и молибденовым анодом.
Рис.5

Рис.4Схемы образованияспектральных линий Характеристического рентгеновского излучения.Вид рентгеновских спектров для трубок с медным и молибденовым анодом.Рис.5

Слайд 27Рис. 6. Семейство плоскостей (231)
Кристаллографические плоскости.Индексы Миллера

Рис. 6. Семейство плоскостей (231)Кристаллографические плоскости.Индексы Миллера

Слайд 28Кристаллографические плоскости.Индексы Миллера
Рис. 7. Кристаллографические плоскости.

Кристаллографические плоскости.Индексы МиллераРис. 7. Кристаллографические плоскости.

Слайд 29Рис. 8. Отражение падающих лучей семейством плоскостей

Рис. 8. Отражение падающих лучей семейством плоскостей

Слайд 30 Условия Лауэ - условия возникновения дифракционного максимума в кристаллах:

углы φ01 φ02 φ03 и φ1 φ2 φ3 определяют направления

распространения первичной и рассеянной волн соответственно Три целых числа h k l называют индексами интерференции.






Условие возникновения дифракционного максимума в кристаллах также можно записать в виде уравнения Вульфа-Брэггов: 2dsinθ= nλ 2dhklsinθ=λ
где d - межплоскостное расстояние; n - порядок отражения; θ -угол скольжения (2θ - угол рассеяния)





a+b = 2dsinθ =nλ

Рис. 9. К выводу уравнения
Вульфа-Брэггов

Условия Лауэ - условия возникновения дифракционного максимума в кристаллах: углы φ01 φ02 φ03 и φ1

Слайд 31Схема получения лауэграммы (а); вид дифракционной картины для кристалла (б):

эллипсы, проведенные через рефлексы, пересекаются в точке, соответствующей оси симметрии

4-го порядка

Существует три метода получения дифракционной картины:

1. Метод Лауэ. Исследуемый образец – монокристалл, излучение полихроматическое

Рис. 10

Рис. 11. Рентгеновская камера РКСО

Рис. 12. Кристаллографическая зона

Схема получения лауэграммы (а); вид дифракционной картины для кристалла (б): эллипсы, проведенные через рефлексы, пересекаются в точке,

Слайд 32
Рис. 13 Лауэграммы берилла Al2Be3Si6O18
Произвольная установка (Тонкими ли-
ниями показаны зональные

кривые.
Первичный пучок направлен вдоль
оси симметрии 2-го порядка


Первичный пучок направлен вдоль
оси симметрии 6-го порядка

Рис. 13 Лауэграммы берилла Al2Be3Si6O18Произвольная установка (Тонкими ли-ниями показаны зональные кривые. Первичный пучок направлен вдоль оси симметрии

Слайд 332. Метод вращения Исследуемый образец – монокристалл,
излучение монохроматическое

а)


Рис. 14. а) схема получения рентгенограммы вращения; б) рентгенограмма вращения

монокристалла фуллерита С60

б)

Рис. 15. Рентгенограмма монокристалла миоглобина


n

2. Метод вращения Исследуемый образец – монокристалл, излучение монохроматическое а) Рис. 14. а) схема получения рентгенограммы вращения;

Обратная связь

Если не удалось найти и скачать доклад-презентацию, Вы можете заказать его на нашем сайте. Мы постараемся найти нужный Вам материал и отправим по электронной почте. Не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникли вопросы или пожелания:

Email: Нажмите что бы посмотреть 

Что такое TheSlide.ru?

Это сайт презентации, докладов, проектов в PowerPoint. Здесь удобно  хранить и делиться своими презентациями с другими пользователями.


Для правообладателей

Яндекс.Метрика