Транзисторные структуры в современной микроэлектронике

«НИИМЭ»
Новосибирск
19.05.2017г.

когда сотрудники «Лаборатории Белла» Уильям Шокли, Джон Бардин и Уолтер

Браттейн создали биполярный транзистор.

В 1956 году они были награждены Нобелевской премией по физике «за исследования полупроводников и открытие транзисторного эффекта».

Транзисторы заменили вакуумные лампы в большинстве электронных устройств, совершив революцию в создании интегральных схем и компьютеров.

Слово «транзистор» (transistor, образовано от слов transfer — передача и resist — сопротивление).

Уильям Шокли

Джон Бардин

Уолтер Браттейн

были зарегистрированы в Германии в 1928г. на имя Юлий Эдгар

Лилиенфелд.

В 1934г. немецкий физик Оскар Хейл запатентовал полевой транзистор. Полевые транзисторы основаны на простом электростатическом эффекте поля, по физике они существенно проще биполярных транзисторов, и поэтому они придуманы и запатентованы задолго до биполярных.

Первый МОП-транзистор был изготовлен намного позже биполярного в 1960г. и микросхемы развивались на основе биполярного транзистора.
Только в 90-х годах прошлого века МОП-технология стала доминировать над биполярной.

В 1977 году Джеймс Маккаллахем из Bell Labs установил, что использование полевых транзисторов может существенно увеличить производительность существующих вычислительных систем.

С этого момента начала наступать эра полевых транзисторов.

Юлий Эдгар Лилиенфелд

Оскар Хейл

в разных компаниях, изобрели практически идентичную модель интегральной схемы. Один

из них, Джек Килби, работал на Texas Instruments, другой, Роберт Нойс, был одним из основателей небольшой компании по производству полупроводников Fairchild Semiconductor. Обоих объединил вопрос: «Как в минимум места вместить максимум компонентов?». Транзисторы, резисторы, конденсаторы и другие детали в то время размещались на платах отдельно, и учёные решили попробовать их объединить на одном монолитном кристалле из полупроводникового материала. Только Килби воспользовался германием, а Нойс предпочёл кремний.
В 1961 году Fairchild пустила интегральные схемы в свободную продажу, и их сразу стали использовать в производстве калькуляторов и компьютеров вместо отдельных транзисторов, что позволило значительно уменьшить размер и увеличить производительность.

Роберт Нойс

Джек Килби

ограничитель миниатюризации приборов
Преимущества:
относительная простота конструкции и технологичность
функционирует на

основных носителях заряда, следовательно меньше требования к «чистоте» объемного материала
меньше p-n переходов, выходящих на поверхность
Недостатки:
высокие требования к чистоте поверхности исходной подложки
высокие требования к подзатворному диэлектрику
меньше рабочие токи
больше (в сравнении с БП) RC задержки

микрочипах по технологии 65-45нм: 9-15 уровней
Число слоев металлизации в микрочипах

по технологии 90нм: 9 уровней

35 нм
HfON

1,7 нм

SiON 1,4 нм

маска;
В рамках процесса возможно изготовление трех типов ГБТ с различными

частотными характеристиками (ГГц):
fт/fmax (Vce (В)): 30/70 (7); 50/95 (4,2) 80/95 (2,4)
В сотрудничестве с компанией IHP ведется разработка элементов с частотой 16ГГц.

Plasma Etch, Impl, CMP, Wet, CVD, PECVD, LPCVD, PVD, LAD,

RTP, Cu plating, Metro, Test).
2. Уменьшение задержки в RC-цепочках межсоединений . Их влияние на задержку сильно возрастает, т.к. задержка в транзисторе уменьшается, а в межсоединениях возрастает, необходима оптимизация.



Уменьшение уд. сопротивления металлической разводки и использование Low-K диэлектриков.

3. Снижение уровня утечек в активном и пассивном режимах . Возрастает плотность статической потребляемой мощности из – за токов утечек и становится сравнимой с динамической мощностью.

4. Обеспечение приемлемого значения сигнал/шум.

5. Обеспечение контроля электромиграции медных
проводников с помощью барьерных слоёв,
блокирующих диффузию.

определяется новыми материалами, а не только масштабированием
На начальных этапах развития

микроэлектроники переход на новый уровень был возможен с помощью простого масштабирования, то по мере уменьшения норм до 1 мкм и менее такие переходы стали требовать сложных решений: коренных изменений процесса и оборудования фотолитографии, новых материалов, структур и т.п.

продолжает сокращаться, более высокое электрическое сопротивление будет связано не только

с удельным сопротивлением меди, но также и с другими источниками, например, рассеянием на границе зерен и поверхностным рассеянием электронов. Покрытие CoWP;
Как показано на рисунке, эти вторичные источники сопротивления начинают доминировать при минимальных размерах элементов ИС менее 30нм.

внедрения межуровневых диэлектриков с низкой диэлектрической постоянной является то, что

все другие изоляторы обладают худшими физическими свойствами (тепловыми, механическими, и/или химическими) по сравнению с SiO2.

365 нм;
Оптическая проекционная литография, DUV – 248, 193 нм;
Оптическая иммерсионная

литография, DUV – 193 i нм;
Оптическая проекционная литография, EUV – 13,56 нм;
DSA литография (как комплементарная к оптической проекционной, иммерсионной литографии);
Оптическая интерференционная литография;
Безмасочная оптическая проекционная литография;

Электронно-лучевая литография (ML1 – один луч);
Многолучевая электронная литография (ML2 – много лучей);

Голографическая литография;

Рентгеновская литография;

Ионно-лучевая литография;

Атомная литография;

Nanoimprint литография;

В маршрутах СБИС нашла массовое применение оптическая литография, сейчас находят применение многолучевая электронная и DSA литографии.

в зависимости от параметров нанесения
Остаточные напряжения после удаления Si3N4 (за

счет рекристаллизации аморфизированного Истока и Стока)

Дифференциальные напряжения в КМОП паре с использованием Si3N4 и имплантации Ge+

Global Foundries, IBM
Мировой технологический уровень:
«28 нм» - 2012 г.
«14 нм»

- 2014 г.
«10 нм» - прогнозируется 2016 г.

МОПТ на КНИ с сверхтонким нелегированным функциональным слоем кремния

Преимущества FD-SOI:
Отсутствие тока утечки
Снижение барьерных емкостей сток/исток
Хороший контроль короткоканальных эффектов

Learn more about FD-SOI technology - STMicroelectronics

прогресс до 2028 года будет связан с КНИ - технологией
UTB

FD - полевой транзистор с ультратонким (менее 10 нм) нелегированным полностью обедненным каналом (КНИ).
Основные преимущества UTB FD :
баллистический перенос носителей, увеличение тока и быстродействия
низкие токи утечки закрытого состояния

Типовой МОП транзистор

состоит в переходе к 3D-структуре

22 нм транзисторы ф.Интел

уровня и минимальных топологических размеров транзисторов
n+

(

замедлилось.
Размер контактного окна и длина затвора (нм)
В этой точке размер

контактного окна становится равен размеру затвора

Размер контактного окна

Длина затвора

& IEDM’1994
Объемный
кремний
КНИ
Многозатворные
структуры
Объемный
кремний
КНИ
Многозатворные структуры

технология
Когда L/W

A. et al. Analysis of the Dispersion of Electrical Parameters and Characteristics of FinFET Devices //Journal of Telecommunications and Information Technology. – 2009. – С. 45-50.

Yongxun Liu et. al. J. Low Power Electron. Appl. 2014, 4(2), 153-167

Intel, Samsung
Технологический уровень Si FinFET:
22 -14 нм
FinFET:
Гетероинтеграция
Мультиплицирование

утечки
Перспективные решения: FINFET, TFET, USJ
Затворные утечки
Перспективные решения: HK/MG
Активные утечки
Перспективные решения:

VddScaling (III-V)

слоем на поверхности, например на КНИ (SOI)
Простота формирования
Крутизна таких

устройств более чем в два раза превышает крутизну обычных SOI (допороговая крутизна характеристики 60 мВ/декада при комнатной температуре)
Возможно выполнение таких устройств в гетероинтегрированной технологии.

J.P. Colinge at al., Silicon-on-insulator Gate-all-around device, IMEC, Kapeldreef 75,3030 Leuven, Belgium

A diagram of a three-dimensional indium-gallium-arsenide transistor, Peter Ye, Purdue University

Гомогенный ПТ

Гетероинтегрированный ПТ

Проигрывает в плотности упаковки VNW
Ограничен литографией при нанесении затвора

формирование нанопровода
Два подхода изготовления
Carrier Profiling of Individual Si Nanowires by

Scanning Spreading Resistance Microscopy Xin Ou at al.

Травление по маске

Нанесение фоторезиста

Проявление резиста

Старт с исходной Si подложки

Top Down Process

Bottom Up Process

Выбор области роста (стимулирование протекания ростового процесса)

Рост в локальной области подложки

Старт с исходной Si подложки

методов
Сложность заполнения узких канавок

Top Down
Сверху вниз
Nanomold-based (Отливка наноформы)
Спейсерная технология
Bottom Up
Снизу

вверх

S.T. Picraux at al., Silicon and Germanium Nanowires: Growth, Properties, and Integration

Переменное легирование по высоте нанопровода

Основная проблема – формирование канала и омического контакта снизу

распределение
Квантовая коррекция
верхнего затвора
Квантовая коррекция
нижнего затвора
Источник: J. Lacord et

al., ST, SSDM 2011 W. Haensch et al., IBM, SSE 1989

Пороговое напряжение

вычисления идут в 2L – мерном гильбертовом пространстве.
Основные алгоритмы:
Алгоритм Гровера;
Алгоритм

Шора;
Алгоритм Залки-Визнера;
Алгоритм Дойча-Йожи.

Кубит: ψ = α|↑> + β|↓>, где |α|2 + |β|2 = 1
Функция для двух частиц ψ = γ1|↑↑ > + γ2 |↑↓> + γ3 |↑↓| + γ4|↓↓>
не может быть разложена на множители ψ1 = α1|↑> + β1|↓>, ψ2 = α2|↑> + β2|↓>,
если γ1 = α1α2; γ2= α1β2; γ3= β1α2; γ4= β1β2 и γ1γ4=α1α2β1β2=γ2γ3=α1β2β1α2,
но γ1γ4≠ γ2γ3 возможное при ЭПР коррекции означает, что |αi|2 + |βi|2 ≠ 1

10 нм
Нестабильность структуры транзистора (металлический затвор) для минимального напряжения;
Паразитные явления

низкого порядка;
Сложность «традиционного» повышения эффективности;

Сложности на уровне 7 нм (и ниже)
Проблемы с интеграцией структур новых устройств;
Электростатический контроль с новыми материалами для канала транзистора(s-Ge,III-V);
Нестабильность структур для низких напряжений Vmin < 0.5 V;

сечение

подпорог. крутизны: SS меньше 60mV/dec .
Идеальный прибор для “зеленых“

приложений с ультранизким энергопотреблением.
Стоит задача увеличения тока открытого состояния

Перспективный МОП транзистор с двойным барьером

спин-поляризованного тока варьируется поперечным электрическим полем, меняющим направление спинов электронов

в результате эффекта Рашбы.

Принцип работы транзистора

Ориентация спинов электронов в Истоке
Инжекция спин-ориентированных электронов в канал транзистора
Транспорт электронов и изменение их спина поперечном электрическим полем затвора в результате эффекта Рашбы;
Транспорт электронов в сток. Электроны с направлением спина, отличающимся от направления намагниченности стока, не проходят.

Конструкция спинового транзистора включает:
Исток– намагниченный ферромагнетик
Сток – ферромагнетик, намагниченный параллельно материалу истока.
Металлический затвор, положенный на HEMT-структуру
Тело транзистора с каналом в виде квантовой ямы с двумерным электронным газом

Исток

Сток

Затвор

Лихаревым в 1986г., но до сих пор имеются только лабораторные

разработки одноэлектронных транзисторов (SET).

SET – транзистор с квантовой точкой в канале, обеспечивающей «кулоновскую блокаду» туннелирования электронов из Истока. Блокада снимается при изменении потенциала на затворе

Проблема: существенным ограничением работы таких устройств является низкая рабочая температура.

0.7 Ga 0.3 As) на кремнии (источник: Intel)
Преимущество – достижение

исключительно высоких подвижностей при сложной технологии. Гибридная технология позволяет совмещать новые материалы с кремнием.
Разрабатываются технологии для использования оптических каналов передачи данных внутри одной микросхемы.

TSV – интерпозера

позволяющая соединять чипы с помощью прямых вольфрамовых соединений (SuperContacts) непосредственно

друг с другом.

Данная микросхема имеет наибольшую на сегодняшний день плотность компоновки. Каждая пластина с высокопроизводительной логической схемой CMOS содержит десять слоев медных внутренних соединений, так что суммарное число слоев транзисторов равно восьми, а соединений — 80. При этом итоговый стек по толщине не отличается от обычного кристалла, поскольку толщина каждого слоя — всего 20 мкм.