Разделы презентаций


Принцип действия и структура микродатчика давления

Содержание

Кремниевый пьезорезистивный микродатчик давленияМикродатчик в корпусеКонструкция чувствительногоэлемента

Слайды и текст этой презентации

Слайд 1Принцип действия и структура микродатчика давления

Калачикова Ирина
МТ11-54Б

Принцип действия и структура микродатчика давленияКалачикова ИринаМТ11-54Б

Слайд 2Кремниевый пьезорезистивный микродатчик давления
Микродатчик в корпусе

Конструкция чувствительного
элемента

Кремниевый пьезорезистивный микродатчик давленияМикродатчик в корпусеКонструкция чувствительногоэлемента

Слайд 3Пьезорезисторы на кремниевой диафрагме
Размещение
Соединение в мостовую схему

Пьезорезисторы на кремниевой диафрагмеРазмещение Соединение в мостовую схему

Слайд 4Герметизация кремниевого чувствительного элемента

Герметизация кремниевого чувствительного элемента

Слайд 5Пьезорезистивный кремниевый микродатчик давления
Вид сверху
Чувствительный элемент датчика в разрезе

Пьезорезистивный кремниевый микродатчик давления Вид сверхуЧувствительный элемент датчика в разрезе

Слайд 6Этапы изготовления чувствительного элемента
Формирование проводников (р+)- типа к пьезорезисторам;
Формирование области

(n+)- типа для контакта к эпитаксиальному слою;
Формирование пьезорезисторов р-типа;
Формирование контактных

окон;
Металлизация и формирование контактных площадок;
Анизотропное травление упругой диафрагмы.
Этапы изготовления чувствительного элементаФормирование проводников (р+)- типа к пьезорезисторам;Формирование области (n+)- типа для контакта к эпитаксиальному слою;Формирование

Слайд 7Формирование проводников (р+)- типа к пьезорезисторам

Формирование проводников (р+)- типа к пьезорезисторам

Слайд 8Формирование области (n+)- типа для контакта к эпитаксиальному слою

Формирование области (n+)- типа для контакта к эпитаксиальному слою

Слайд 9Формирование пьезорезисторов

Формирование пьезорезисторов

Слайд 10Осаждение нитрида кремния на обратную сторону пластины
Эта операция необходима для

формирования защитного слоя на обратной стороне пластины. Это слой будет

в последствии использован при создании мембраны чувствительного элемента. Слой нитрида кремния осаждают из паровой фазы при пониженном давлении.
Осаждение нитрида кремния на обратную сторону пластиныЭта операция необходима для формирования защитного слоя на обратной стороне пластины.

Слайд 11Формирование контактных окон

Формирование контактных окон

Слайд 12Металлизация и формирование контактных площадок

Металлизация и формирование контактных площадок

Слайд 13Анизотропное травление упругой диафрагмы

Анизотропное травление упругой диафрагмы

Слайд 14Монтаж кремниевого чувствительного элемента на стеклянное основание
Чувствительный элемент должен быть

закреплен на стеклянной опоре так, чтобы обеспечить герметичность полости под

диафрагмой и минимизировать в ней сборочные напряжения. Чаще всего для этого применяют анодную сварку кремния со стеклом.
Монтаж кремниевого чувствительного элемента на стеклянное основаниеЧувствительный элемент должен быть закреплен на стеклянной опоре так, чтобы обеспечить

Обратная связь

Если не удалось найти и скачать доклад-презентацию, Вы можете заказать его на нашем сайте. Мы постараемся найти нужный Вам материал и отправим по электронной почте. Не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникли вопросы или пожелания:

Email: Нажмите что бы посмотреть 

Что такое TheSlide.ru?

Это сайт презентации, докладов, проектов в PowerPoint. Здесь удобно  хранить и делиться своими презентациями с другими пользователями.


Для правообладателей

Яндекс.Метрика