Разделы презентаций


Физика реального кристалла

Содержание

Необходимо понять:1. Почему в кристаллах изначально присутствуют дислокации? 2. Почему дислокации размножаются при напряжениях много меньших теоретического порога текучести ?

Слайды и текст этой презентации

Слайд 1Профессор Б.И.Островский
Физика реального кристалла
ostr@cea.ru
Откуда берутся дислокации?
Механизмы размножения

и движения
дислокаций.

Профессор Б.И.ОстровскийФизика реального кристаллаostr@cea.ruОткуда берутся дислокации?   Механизмы размножения и движения   дислокаций.

Слайд 2Необходимо понять:

1. Почему в кристаллах изначально присутствуют дислокации?


2. Почему

дислокации размножаются при напряжениях много меньших теоретического порога текучести ?

Необходимо понять:1. Почему в кристаллах изначально присутствуют дислокации? 2. Почему дислокации размножаются при напряжениях много меньших теоретического

Слайд 3Откуда берутся дислокации?

Откуда берутся дислокации?

Слайд 6Дислокации несоответствия

Дислокации несоответствия

Слайд 7Отпечаток
индентора!
Гетерогенное зарождение дислокаций
под действием источника («концентратора»)
напряжений

Отпечатокиндентора!Гетерогенное зарождение дислокацийпод действием источника («концентратора»)напряжений

Слайд 8Определение способности кристалла
к пластической деформации

Определение способности кристалла к пластической деформации

Слайд 9Vd =  l/ t

Vd =  l/ t

Слайд 10Избирательное травление

Избирательное травление

Слайд 12Oscar Rodríguez de la Fuente, Ph.D. Thesis, UCM
Облучение поверхности быстрыми

частицами
СТМ реконструкция

Oscar Rodríguez de la Fuente, Ph.D. Thesis, UCMОблучение поверхности быстрыми частицамиСТМ реконструкция

Слайд 14Дислокации несоответствия
Эффекты механических напряжений
при гетероэпитаксии
 = (b-a)/a
Сохранение объема
элементарной ячейки

Дислокации несоответствияЭффекты механических напряженийпри гетероэпитаксии  = (b-a)/aСохранение объемаэлементарной ячейки

Слайд 15Несоответствие решеток

Несоответствие решеток

Слайд 16d = b/

d = b/

Слайд 17E ~  2
ED ~ 
ED ~ N ~

1/d ~ 

E ~  2ED ~  ED ~ N ~ 1/d ~ 

Слайд 21Механизмы размножения дислокаций

Механизмы размножения дислокаций

Слайд 23Сила, действующая на единицу длины дислокации
Сила всегда направлена
перпендикулярно линии
дислокации
Gj =biij
вектор
Сила

Пича -
- Келлера

Сила, действующая на единицу длины дислокацииСила всегда направленаперпендикулярно линиидислокацииGj =biijвекторСила Пича -- Келлера

Слайд 24Линейное натяжение дислокаций
/L =
/L =

Линейное натяжение
стремится уменьшить
длину дислокационной
линии
Сила,

действующая
на концы линии

Линейное натяжение дислокаций/L = /L = Линейное натяжениестремится уменьшитьдлину дислокационнойлинииСила, действующаяна концы линии

Слайд 25Изгиб линии дислокации
Таким образом, для того, чтобы изогнуть дислокацию
в

кривую с эффективным радиусом R, необходимо
приложить к образцу напряжение:


 = Gb/R

R = Gb/

Изгиб линии дислокацииТаким образом, для того, чтобы изогнуть дислокацию в кривую с эффективным радиусом R, необходимо приложить

Слайд 26Источник
Франка - Рида

процесс повторяется
много раз



Источник Франка - Ридапроцесс повторяетсямного раз

Слайд 27Дислокационная сетка (сетка Франка)

Дислокационная сетка (сетка Франка)

Слайд 28  = b/
  G
c  b/l

    = b/  Gc  b/l

Слайд 29b
Механизм Франка - Рида. Стрелки показывают направление обхода
линии дислокации; b

- вектор Бюргерса.
b/l
Критическое напряжение, при котором работает источник
c

 b/l

c  10-3

c  P


bМеханизм Франка - Рида. Стрелки показывают направление обходалинии дислокации; b - вектор Бюргерса.b/lКритическое напряжение, при котором работает

Слайд 36Другие источники дислокаций

Другие источники дислокаций

Слайд 40 c 
106 Н/м2

c  106 Н/м2

Слайд 41Призматические дислокации
Если образуется диск достаточно большого размера,
то ему энергетически

выгодно деформироваться с
образованием дислокационной петли

Призматические дислокацииЕсли образуется диск достаточно большого размера, то ему энергетически выгодно деформироваться с образованием дислокационной петли

Слайд 42Образование дислокаций при росте
кристаллов из расплава
1. Образование большого количества

равновесных вакансий
вблизи температуры плавления.

2. Коалесценция избыточных вакансий в

областях кристалла,
где температура понижена относительно средней вследствие
температурных градиентов. Дальнейшее образование
призматических дислокационных петель – первичные дислокации.

3. Первичные дислокации являются источниками Франка-Рида и
происходит размножение дислокаций под действием
температурных напряжений, превышающих критические
напряжения размножений дислокаций c .

Процессы идут в следующей последовательности:

Образование дислокаций при росте кристаллов из расплава1. Образование большого количества равновесных вакансий  вблизи температуры плавления.2. Коалесценция

Обратная связь

Если не удалось найти и скачать доклад-презентацию, Вы можете заказать его на нашем сайте. Мы постараемся найти нужный Вам материал и отправим по электронной почте. Не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникли вопросы или пожелания:

Email: Нажмите что бы посмотреть 

Что такое TheSlide.ru?

Это сайт презентации, докладов, проектов в PowerPoint. Здесь удобно  хранить и делиться своими презентациями с другими пользователями.


Для правообладателей

Яндекс.Метрика