Разделы презентаций


Химия функциональных материалов

Содержание

Параметры

Слайды и текст этой презентации

Слайд 1Химия функциональных материалов
Электрические свойства твердых тел

Химия функциональных материаловЭлектрические свойства твердых тел

Слайд 2Параметры

Параметры

Слайд 3Материалы
Факторы
Металлическая
Ионная
Ковалентная
Электроны
Ионы
Дырки

МатериалыФакторыМеталлическаяИоннаяКовалентнаяЭлектроныИоныДырки

Слайд 4Метод молекулярных орбиталей

Метод молекулярных орбиталей

Слайд 5Образование энергетических зон в твердом теле

Образование энергетических зон в твердом теле

Слайд 6Материалы

Материалы

Слайд 7Относительная электропроводность металлов

Относительная электропроводность металлов

Слайд 8Электропроводность зависит:
Степень перекрытия электронных оболочек
Числа электронов на электронных оболочках
Наибольшая электропроводность:

I B подгруппа – Ag (4d10 5s1, Cu 3d10 4s1,

Au 5d10 6s1,
III B – Al (3s1 3p2) .
Переходные Ме более электропроводны → перекрывание s-подуровня с d- и f.

Электропроводность определяется природой металла

Электропроводность зависит:Степень перекрытия электронных оболочекЧисла электронов на электронных оболочкахНаибольшая электропроводность: I B подгруппа – Ag (4d10 5s1,

Слайд 9Металлы и сплавы
Ag, Au, Cu, Al, их сплавы
Низкое ρ, высокие

прочность, коррозионная стойкость
Сплавы меди, Fe-Ni-Cr, Fe-Cr-Al
Высокие ρ, прочность, коррозионная стойкость

Металлы и сплавыAg, Au, Cu, Al, их сплавыНизкое ρ, высокие прочность, коррозионная стойкостьСплавы меди, Fe-Ni-Cr, Fe-Cr-AlВысокие ρ,

Слайд 10Рассеяние энергии электрона:
Тепловые колебания атомов или ионов (фононы) - ρт
Дефекты

кристаллического строения - ρост
ρ=ρт+ ρост
ρт= ρ0αТ
ρ0 – удельное сопротивление при

температуре начала отсчета

Tкр – max температура сверхпроводимости
(ρ <10 Ом·м, Nb Tкр =9,2K)
ϴд – температура Дебая, выше нее не надо учитывать квантовые эффекты

Рассеяние энергии электрона:Тепловые колебания атомов или ионов (фононы) - ρтДефекты кристаллического строения - ρостρ=ρт+ ρостρт= ρ0αТρ0 –

Слайд 11Сверхпроводимость (1911)
Высокотемпературная сверхпроводимость ВТСП (1986)

Сверхпроводимость (1911)Высокотемпературная сверхпроводимость ВТСП (1986)

Слайд 12Эффект Мейснера

Эффект Мейснера

Слайд 13Типы сверхпроводников

Типы сверхпроводников

Слайд 15YBa2Cu3O7

YBa2Cu3O7

Слайд 16Y+3Ba+22Cux3O-2 7
-3x=-14+3+2(+2)
3x=7
Cu(+1)
Cu(+2) -?
Cu(+3)
Cu1:Cu2=1:2
2Cu(+3)+Cu(+1)=+7
2Cu(+2)-Сu2
Cu(+3)-Cu1
2Cu(+2)+Cu(+3)=+7
Сu2-КЧ=4
Степень окисления Cu-?

Y+3Ba+22Cux3O-2 7-3x=-14+3+2(+2)3x=7Cu(+1)Cu(+2) -?Cu(+3)Cu1:Cu2=1:22Cu(+3)+Cu(+1)=+72Cu(+2)-Сu2Cu(+3)-Cu12Cu(+2)+Cu(+3)=+7Сu2-КЧ=4Степень окисления Cu-?

Слайд 17Электропроводность сплавов
ρсплава < ρМе - из-за нарушения периодичности электрического потенциала

решетки атомами растворенного компонента → рассеяние электронов. Чем больше разность

валентности и радиусов атомов, тем больше увеличение сопротивления.
Электропроводность сплавовρсплава < ρМе - из-за нарушения периодичности электрического потенциала решетки атомами растворенного компонента → рассеяние электронов.

Слайд 18Зависимость электропроводности от состава сплавов
Твердые
растворы
Эвтектические
сплавы
Эвтектические
сплавы+твердые
растворы
Эвтектические
сплавы+новое

соединение

Зависимость электропроводности от состава сплавовТвердые растворыЭвтектические сплавыЭвтектические сплавы+твердые растворыЭвтектические сплавы+новое соединение

Слайд 19Электрические свойства тонких металлических пленок
ρпленки > ρМе
Структура пленки (островковая,

аморфная, кристаллическая)
Размерные эффекты (большая площадь поверхности и малый объем)
I –

h<10-3 мкм, островная структура
II - 10-2 III – h>10-1 мкм сплошной слой
Электрические свойства тонких металлических пленокρпленки > ρМе Структура пленки (островковая, аморфная, кристаллическая)Размерные эффекты (большая площадь поверхности и

Слайд 20Контактная разность потенциалов и термо-ЭДС
EAБ= EБ-EA+(kT/e)ln(nA/nБ)
E – потенциалы металлов
n –

концентрации металлов
При разных температурах Ме:
E=EАБ+EБА=EБ-EA+(kT1/e)ln(nA/nБ)+EА-EБ+(kT2/e)ln(nБ/nА)
Е= (k/e)(T1-T2)( ln(nA/nБ)
Копель (56% Сu+Ni), алюмель

(95% Ni+Al, Si, Mn), хромель (90% Ni+Cr)
Контактная разность потенциалов и термо-ЭДСEAБ= EБ-EA+(kT/e)ln(nA/nБ)E – потенциалы металловn – концентрации металловПри разных температурах Ме:E=EАБ+EБА=EБ-EA+(kT1/e)ln(nA/nБ)+EА-EБ+(kT2/e)ln(nБ/nА)Е= (k/e)(T1-T2)( ln(nA/nБ)Копель

Слайд 21Контактная разность потенциалов и термо-ЭДС
Теллурид висмута Bi2O3

Контактная разность потенциалов и термо-ЭДСТеллурид висмута Bi2O3

Слайд 22Электрические свойства полупроводников
Si, Ge -4e
А(II)В(VI) CdS, CdTe, α-ZnS
А(III)В(V) GaAs,

GaP,
InSb, InP, AlP, AlSb,
Алмаз

Электрические свойства полупроводников Si, Ge -4eА(II)В(VI) CdS, CdTe, α-ZnSА(III)В(V) GaAs, GaP,InSb, InP, AlP, AlSb, Алмаз

Слайд 23 Si, Ge связь
(4e)+(4e)=8 e оболочка
ковалентная неполярная
А(II)В(VI),
IIB (Zn, Cd)+VIA (S,

Se, Te)
A (2e)+B (6e)=8 e оболочка
А(III)В(V)
IIIA (B, Al, Ga, In)+VB

(N, P, As, Sb)
A (3e)+B (5e)=8 e оболочка

A→B, ковалентная полярная
Халькогениды свинца
– ионная связь
Zср=(ZA+ZB)

Si, Ge связь(4e)+(4e)=8 e оболочкаковалентная неполярнаяА(II)В(VI),IIB (Zn, Cd)+VIA (S, Se, Te)A (2e)+B (6e)=8 e оболочкаА(III)В(V)IIIA (B,

Слайд 24Собственные носители заряда
а – образование носителей заряда,
б – энергетическая

шкала,
в – перемещение носителей заряда под действием напряжения
Связанная пара электрон-дырка

- экситон
Собственные носители заряда а – образование носителей заряда,б – энергетическая шкала,в – перемещение носителей заряда под действием

Слайд 25Примесные носители заряда
Примесь Sb (5e)
Примесь In (3e)
Донор е
электронная проводимость
n-типа

(negative)
Акцептор е
дырочная проводимость
p-типа (positive)

Примесные носители зарядаПримесь Sb (5e)Примесь In (3e)Донор е электронная проводимостьn-типа (negative)Акцептор е дырочная проводимостьp-типа (positive)

Слайд 26Рекомбинация – возвращение электрона в валентную зону
τn→1/(pvn); τp→1/(nvp)
τn, τp –

время жизни электрона (n), дырки (p);
n, p – концентрация электрона

(n), дырки (p);
vn, vp – скорость электрона (n), дырки (p).
Полупроводники 10-2<τ<10-8, стабильная работа τ>10-5

Ln=√(Dn τn); Lp=√(Dp τp)
Ln, Lp – диффузная длина электрона (n), дырки (p) – расстояние которое успевает пройти носитель за время жизни
Dn, Dp – коэффициент диффузии электрона (n), дырки (p).

Время жизни носителя заряда

Рекомбинация – возвращение электрона в валентную зонуτn→1/(pvn); τp→1/(nvp)τn, τp – время жизни электрона (n), дырки (p);n, p

Слайд 27Собственный проводник
γсоб= γn + γр=neun+neup
γn, γp – удельная электропроводность электрона

(n), дырки (p);
е – заряд электрона;
un, up – подвижность электрона

(n), дырки (p).

Электропроводность полупроводников

Примесный проводник
γ=γсоб+γпр
γсоб, γпр – собственная и примесная удельная электропроводность;
γпр=neun - электронный проводник
γпр=neuр - дырочный проводник

Собственный проводникγсоб= γn + γр=neun+neupγn, γp – удельная электропроводность электрона (n), дырки (p);е – заряд электрона;un, up

Слайд 28Зависимость электропроводности полупроводников от температуры

Зависимость электропроводности полупроводников от температуры

Слайд 29Зависимость сопротивления полупроводников от температуры

Зависимость сопротивления полупроводников от температуры

Слайд 30Фотопроводимость
Фоторезисторы
CdS, ZnS, CdSe
Фотореле, сигнализация,
датчики наличия, датчики
светоосвещенности

ФотопроводимостьФоторезисторыCdS, ZnS, CdSeФотореле, сигнализация, датчики наличия, датчики светоосвещенности

Слайд 31p-n (электронно-дырочный) переход
Диффузия носителей заряда
Возникновение слоя двойного заряда –

запирающего слоя

p-n (электронно-дырочный) переход Диффузия носителей зарядаВозникновение слоя двойного заряда – запирающего слоя

Слайд 32Прямое включение p-n перехода
+ источника к р-области
источника к n-области
Движение

е источника увеличивает поток носителей
Высота барьера понижается
При ↑ силы тока,

напряжение ↑
Прямое включение p-n перехода + источника к р-областиисточника к n-областиДвижение е источника увеличивает поток носителейВысота барьера понижаетсяПри

Слайд 33Обратное включение p-n перехода
- источника к р-области
+ источника к

n-области
Поток носителей не меняется
Высота барьера увеличивается
При ↑ силы тока,
напряжение

const
Обратное включение p-n перехода - источника к р-области+ источника к n-областиПоток носителей не меняетсяВысота барьера увеличиваетсяПри ↑

Слайд 34Вольт-амперная характеристика (ВАХ) p-n перехода
Транзисторы
Фотодиоды
Стабилизаторы напряжения
Полупроводниковые лазеры
Солнечные батареи
Микросхемы

Вольт-амперная характеристика (ВАХ) p-n перехода ТранзисторыФотодиодыСтабилизаторы напряженияПолупроводниковые лазерыСолнечные батареиМикросхемы

Слайд 35ВЫВОДЫ
P-n переход образуется на границах p- и n- областей, созданных

в кристалле полупроводника
В результате диффузии в p-n переходе возникает

электрическое поле – потенциальный барьер, препятствующий выравниванию концентраций носителей заряда.

При обратном подключении источника тока потенциальный барьер повышается и через p-n переход ток практически не идет.

При прямом подключении источника тока потенциальный барьер понижается и через p-n переход идет ток

Ширина p-n перехода зависит от концентрации примесей в р и n областях и от величины приложенного напряжения.

ВЫВОДЫP-n переход образуется на границах p- и n- областей, созданных в кристалле полупроводника В результате диффузии в

Слайд 381960-1970
GaP, GaAs
Красный зеленый
Синий
SiC, ZnSe,
Синий
GaN 1998
(Тпл=20000С
р=40 атм)

1960-1970GaP, GaAs Красный зеленыйСиний SiC, ZnSe, Синий GaN 1998(Тпл=20000Ср=40 атм)

Слайд 40Электрические свойства диэлектриков
Поверхностная: (Ом)
γs=1/ρs
ρs=Rsd/l
R – сопротивление
d – ширина электродов
l

– расстояние между электродами
Объемная
(Ом·м)
γv=1/ρv
ρV=RVS/l
R – сопротивление
S – сечение
l

– длина
γv=Aexp[-W/(kT)]

Электропроводность

Rизд=RvRs/(Rv+Rs)

Электрические свойства диэлектриковПоверхностная: (Ом) γs=1/ρsρs=Rsd/lR – сопротивлениеd – ширина электродовl – расстояние между электродамиОбъемная (Ом·м) γv=1/ρvρV=RVS/lR –

Слайд 41Электрические свойства диэлектриков
Приводимость обеспечивают:
Низкие температуры – примесные ионы (примесная проводимость)
Высокие

температуры – ионы решетки (собственная проводимость

Филлипсит

Электрические свойства диэлектриковПриводимость обеспечивают:Низкие температуры – примесные ионы (примесная проводимость)Высокие температуры – ионы решетки (собственная проводимостьФиллипсит

Обратная связь

Если не удалось найти и скачать доклад-презентацию, Вы можете заказать его на нашем сайте. Мы постараемся найти нужный Вам материал и отправим по электронной почте. Не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникли вопросы или пожелания:

Email: Нажмите что бы посмотреть 

Что такое TheSlide.ru?

Это сайт презентации, докладов, проектов в PowerPoint. Здесь удобно  хранить и делиться своими презентациями с другими пользователями.


Для правообладателей

Яндекс.Метрика