: 0,186 0,190
0,353 0,340i = Tэксп / Трасч
i > 1
i = 1
Возьмем 0,1 моляльные растворы
СO(NH2)2, CH3COOH, NaNO3, KCl
i = Tэксп / Трасч
i > 1
i = 1
Возьмем 0,1 моляльные растворы
СO(NH2)2, CH3COOH, NaNO3, KCl
Ионизация молекул в растворе как следствие их взаимодействия с полярными молекулами Н2О
NaOH Na+ + OH-
HCl H++Cl-
H2SO4 2H++(SO4)2-
HCl Fe(NO3)3 Al2(SO4)3
n
2
4
5
i 1
вещества
электролиты
неэлектролиты
не проводят эл. ток
проводят эл.ток
оксиды, орг.в-ва
соли, к-ты, основания
1. H2O
2. Кислоты
H2CO3, H2S,
HCN, HNO3
CH3COOH
3. Основания,
NH4OH
4. Некоторые соли
1. Кислоты:
H2SO4, HNO3, HCl,
HBr, HI, HClO4
2. Основания:
LiOH, NaOH …
Ca(OH)2, Sr(OH)2,
Ba(OH)2
3. Все соли
Слабые и сильные электролиты
1.
Природа растворителя
2.
Т
3.
Факторы, влияющие
на степень электролитической диссоциации
С
4.
При уменьшении С (при разбавлении) значение растет ( 1, когда V )
Введение одноименного иона в растворе подавляет диссоциацию
Одноименные ионы
5.
NH4H2O NH4+ OH
NH4+
+NH4Cl
Т эксп
Трасч
= ———
i - 1
n - 1
n – число ионов из одной молекулы
= æ V
V – разбавление, моль-1
V = ———
1000
C
C – молярная концентрация , моль/л
= ———
- электропроводность бесконечно разбавленного раствора
HCl = H+ + Cl─
[H+] [Cl─]
Kд = —————
[HCl]
Значения Kд табулированы
СН3СООН СН3СОO- + H+
[СН3СОО─] H+]
Kд = ———————— = 2 ∙ 10-5
[СН3СООН]
Свойства растворов слабых электролитов
Константа диссоциации
HS─ H+ + S2─
[H+] [S2─]
K д= ————— 10-13
[HS-]
K1 > K2 > …
С • С С2
Kд = ———— = ———
C(1 - ) 1 -
1
Kд = C2
К Н2О = Кд ·[Н2О] = [Н+ ] · [ОН- ] =
=1,86 · 10-16 · 55,55 = 10-14
КН2О = [Н+ ] ·[ОН-] = 10-14
[ Н+] = [ ОН- ] = 10-7моль/л
в чистой воде
Ионное произведение воды
рОН = - lg ОН-
рН + рОН = 14
Примеры гидрометаллургических процессов, в которых рН среды имеет большое значение
1. Окислительный обжиг концентрата и получение огарка (ZnO):
2ZnS + 3O2 = 2ZnO +2 SO2
2.Выщелачивание цинкового огарка ( 70 ºC):
ZnO + H2SO4 = ZnSO4 + H2O
В процессе выщелачивания цинкового огарка решающее значение имеет поведение соединений трех компонентов: основного компонента – цинка и примесных компонентов – железа и кремнезема.
Железо и кремнезем относятся к макропримесям, к микропримесям относятся – As, Sb, Al, Cu, In, Ga, Ge и др.
Fe2(SO4)3 · аq + 2nH2O = Fe2(OH)2n(SO4)2 · aq + nH2SO4
Осаждение малорастворимых cоединений железа происходит в кислых растворах, имеющих значение рН в пределах 1,7 – 2,5.
Таким образом, нейтрализация кислых растворов сульфата цинка огарком (до рН 1,7-2,5) способствует насыщению раствора малорастворимыми соединениями железа, которые начинают выпадать в осадок.
Этот процесс называется гидролитическое осаждение.
В зависимости от температуры могут осаждаться и другие кристаллические фазы: (H3O)Fe3(OH)6(SO4)2; FeOHSO4; FeOOH.
Очистка растворов от кремнезема в виде осадков кремнекислоты H4SiO4, благоприятных для отстоя и фильтрации, происходит в области рН = 3–3,5.
Кремнезем в огарках присутствует в виде силиката цинка, который при выщелачивании серной кислотой переходит в раствор в виде ортокремниевой кислоты:
Zn2SiO4 + 2H2SO4 · aq = 2ZnSO4 · aq + H4SiO4 · aq
Выщелачивание цинкового огарка заканчивается при рН = 4,8-5,4, что обеспечивает высокую степень извлечения цинка в раствор (до 90 %).
Таким образом, дальнейшее нейтрализация растворов сульфата цинка огарком до рН раствора, равным 3-3,5, приводит к очистке раствора от кремнезема.
2OH - - 2e = H2O + 1/2O2
ZnSO4 + H2O = Zn + H2SO4 + 1/2O2
В качестве катодов используются алюминиевые листы, аноды выполнены из свинца.
Осадок цинка периодически сдирается с катода и подвергается переплавке.
При гидрометаллугическом способе производства Zn достигается высокая степень комплексного использования сырья. Извлечение Zn составляет 95-97 %. Кроме того, извлекают Cd, Pb, Cu, а также Au, Ag, Ge, Tl In, Se, Te.
спек Na2WO4
выщелачивание спека
водой
раствор Na2WO4 + примеси
очистка от примесей
раствор
CaCl2
CaWO4
HCl
H2WO4
обжиг
WO3
восстановление
W
Шеелитовый концентрат разлагается раствором соды при 225 ºС c образованием растворимого Na2WO4.
2CaWO4(т) + 2Na2CO3(ж) = 2Na2WO4(ж) + 2CaO(т) + 2CO2
После вскрытия концентратов образуются растворы вольфрамата натрия (Na2WO4), загрязненные примесями, главными из которых являются Si, P, As, F, Mo. Поэтому следующей операцией является очистки раствора от примесей.
Очистка от кремния. Кремний присутствует в растворе в виде силиката натрия (Na2SiO3). Раствор вольфрамата натрия имеет сильно щелочную среду (рН~14). Очистка основана на гидролитическом разложении Na2SiO3 при кипячении и нейтрализации раствора соляной кислотой до рН=89 с выделением кремниевой кислоты в виде белого осадка.
Na2SiO3 + HCl = H2SiO3 + NaCl
Далее последовательно удаляют примеси P и As осаждением нерастворимых солей Mg(NH4)PO4 и Mg(NH4)AsO4, а молибден в виде осадка MoS3.
Осадки отделяют от раствора на фильтре.
CaWO4 + HCl = H2WO4 = CaCl2
H2WO4 = WO3 + H2O
t
Восстановление WO3 ведут водородом при 700-850 ºС. Процесс осуществляют в две стадии:
WO3 + H2 = WO2 + H2O
WO2 + 2H2 = W + 2H2O
Если не удалось найти и скачать доклад-презентацию, Вы можете заказать его на нашем сайте. Мы постараемся найти нужный Вам материал и отправим по электронной почте. Не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникли вопросы или пожелания:
Email: Нажмите что бы посмотреть