Разделы презентаций


Сканирующая электронная микроскопия Первая идея 1927 год Штинзинг Первое

Содержание

Схема процессов при облучении образца электронами

Слайды и текст этой презентации

Слайд 1Сканирующая электронная микроскопия
Первая идея 1927 год Штинзинг
Первое воплощение 1935 год

Кнол
Основное развитие в 70ые годы Оснащение EBSD, Рентеговским микроанализом.
В 80

ые Применение Полевых эмитеров в качестве источников.
В 90 ые начало промышленного выпуска Микроскопов работающих в низком вакууме.
Современное состояние – Напряжение около 30 киловольт, максимальное разрешение 5-10 Ангстрем минимальное 1 мм то есть шесть порядков величины на одном устройстве.
Дополнительная информация получаемая параллельно связана с регистрацией различных групп вторично-эмиссионного спектра, отраженных электронов, спектров потерь, характеристического рентгеновского излучения.
Сканирующая электронная микроскопияПервая идея 1927 год ШтинзингПервое воплощение 1935 год КнолОсновное развитие в 70ые годы Оснащение EBSD,

Слайд 2Схема процессов при облучении образца электронами

Схема процессов при облучении образца электронами

Слайд 3Блок схема типичного сканирующего микроскопа
Объективные линзы - фокусировка электронного пучка

на образце
Стигматор – исправление цилинрических аберраций вносимых магнитной отклоняющей системой
Конденсорные

линзы – исправление аберраций
Сферическихе аберации– зависящих от геометрии электронной оптики Хроматическихе аберации– зависящих от энергии электронов , наиболее выражены для низких энергий. Поэтому термоионные катоды с большой энергетической полушириной пучка не применимы при малых энергиях пурвичных электронов
Дифракционные аберации - зависящих от размера диафрагмы и энергии (длины волны электрона)
Блок схема типичного сканирующего микроскопаОбъективные линзы - фокусировка электронного пучка на образцеСтигматор – исправление цилинрических аберраций вносимых

Слайд 4Благодаря очень малой диафрагме (50-100 мкм) можно
добиваться глубины резкости в

100 раз большей чем при оптическом увеличении того же масштаба

(1000х)

Микрофотография мухи дроздофилы
Покрытой тонким слоем золота

Благодаря очень малой диафрагме (50-100 мкм) можнодобиваться глубины резкости в 100 раз большей чем при оптическом увеличении

Слайд 5Наиболее распространенный тип электронной пушки – триодная пушка
Плотность тока подчиняется

закону Ричадсона. Тс – температура котода, Ф- работа выхода катода.
Jc=3А/см2

для Тс=2800оК

Катоды – вольфрамовая проволока V-образной формы (работа выхода Ф=4.5 эВ) 100 мкм горячая точка,
LaB6 керамика Ф=2.5 эВ размер отдельного кристалла 1 мкм Рабочая температура 1900 оС
Холодные и подогреваемые автоэмиссионные катоды яркость в 2-3 раза выше, энергетическая ширина в 2-3 раза уже, полный ток от 10 до двух раз меньше, время жизни – больше года.

Наиболее распространенный тип электронной пушки – триодная пушкаПлотность тока подчиняется закону Ричадсона. Тс – температура котода, Ф-

Слайд 6Детекторы
Синциляторный детектор преобразует сигнал электронов в оптический сигнал а затем

обратно в электронный. Используется для регистрации вторичных и обратно отраженных

электронов.

Твердотельный полупроводниковый детектор в основном применяется для регистрации обратно отраженных электронов, поскольку его выход зависит от энергии падающих электронов.

Микроканальные пластины применимы для всех излучений наиболее применимы в низковольтной области.

Системы регистрации излучения катодолюминисценции на основе фотоумножителя с монохроматором или полихроматором, а также твердотельные рентгеновские детекторы с монохроматорами.

ДетекторыСинциляторный детектор преобразует сигнал электронов в оптический сигнал а затем обратно в электронный. Используется для регистрации вторичных

Слайд 7Манипуляторы
Основная характеристика минимизация вибраций, позиционирование образца.
Дополнительные опции:
Прецизионное позиционирование пьезо

моторами
Возможность измерения тока через образец
Контролируемый нагрев и охлаждение.
Деформация образца
Комбинирование со

сканирующими зондовыми микроскопами.
Наклон образца создание стереизображений
МанипуляторыОсновная характеристика минимизация вибраций, позиционирование образца.Дополнительные опции: Прецизионное позиционирование пьезо моторамиВозможность измерения тока через образецКонтролируемый нагрев и

Слайд 8Характеристическое рентгеновское излучение
Модельный спектр, континуум растет с энергией электронов и

сдвигается в
область больших энергий. Интенсивность линий зависит от сечения

(квантового выхода)

Зависимость квантового выхода от номера элемента.

Слабая зависимость от химического состояния

Характеристическое рентгеновское излучениеМодельный спектр, континуум растет с энергией электронов и сдвигается в область больших энергий. Интенсивность линий

Слайд 9Формирование контраста и разрешение
Котраст определяется как С=(S-S av)/S и

будет заметен когда С>5*10-2

Пространственное разрешение в значительной мере зависит

как от аппаратной функции и ее стабильности, детектируемого излучения и природы материала и формирования контраста. Хорошими значениями считаются 3-5 нм при 30 кэВ.

Топографический контраст

Формируется:
Зависимостью выхода вторичных электронов от угла падения электронов на элемент поверхности
Зависимость угловой ориентации элемента поверхности к детектору. Электроны из различных углублений доходят не полностью, что дает заметный контраст
Увеличением выхода вторичных электронов на краях малых областей размеры которых меньше области диффузии. Краевой контраст
Зарядовый эффект создающий артифактный контраст заряженных непроводящих областей .

Формирование контраста и разрешениеКотраст определяется как С=(S-S av)/S  и будет заметен когда С>5*10-2 Пространственное разрешение в

Слайд 10а- Изображения во вторичных электронах полученное Обычным детектором
b – изображение

в обратно отраженных электронах в том же детекторе. Вторичные электрону

отсечены подвчей отрицательного напряжения на сетку перед детектором
c, d- изображения в обратно отраженных электронах полученное четырех секционным полупроводниковым детектором с широкой угловой апертурой с разных направлений

Формирование контраста

а- Изображения во вторичных электронах полученное Обычным детекторомb – изображение в обратно отраженных электронах в том же

Слайд 11Формирование контраста обратно отраженных электронов
Зависимость коэффициента обратного отражения от угла

падения первичных электронов на элемент поверхности
Угловой ориентации элементов поверхности по

отношению к детектору, когда некоторые теневые стороны находятся не в прямой видимости от детектора.
Краевые эффекты, усиление на краях.

Вторично эмиссионное изображение с направлением на опто-электронном детектор
Изображение в обратно отраженных электронах на том же детекторе
Изображение в обратно отраженных электронах на ПП детекторе расположенном ниже объективных линз с широкой апертурой

Формирование контраста обратно отраженных электроновЗависимость коэффициента обратного отражения от угла падения первичных электронов на элемент поверхностиУгловой ориентации

Слайд 12Контраст от материала
Зависимость коэффициента ВЭЭ от материала в основном определяется

зависимостью коэффициента обратного отражения.

Контраст от материалаЗависимость коэффициента ВЭЭ от материала в основном определяется зависимостью коэффициента обратного отражения.

Слайд 13Другие виды контраста
Контраст поверхностного потенциала: Коэффициент ВЭЭ существенно зависит от

потенциала поверхности. Которое в свою очередь зависит от локальной проводимости,.

Особенный интерес представляет для диагностики электронных устройств и их профилей., а также для методики электронной стробоскопии применяемой для диагностики отказов электронных схем в том числе на высокой частоте.

Контраст наведенного тока – образуется за счет протекания тока в случае если в разных частях образца происходит накопление дырок или электронов. В основном интересен для анализа полупроводниковых структур

Контраст кристаллической ориентации – эффект каналирования для обратно отраженных электронов, особенно проявляется при малых увеличениях, когда изменение угла падения первичного пучка значительно

Магнитный контраст- два типа:
изменение траекторий медленных электронов и таким образом изменение регистрируемого сигнала от областей с разной намагниченностью
Изменение траекторий обратно отраженных электронов внутренним магнитным полем домена к поверхности или от нее. Необходима высокая энергия первичных электронов, сильно зависит от угла сбора. Общее изменение около 1%

Другие виды контрастаКонтраст поверхностного потенциала: Коэффициент ВЭЭ существенно зависит от потенциала поверхности. Которое в свою очередь зависит

Слайд 14Подготовка образцов
Пробоподготовка зависит от образца и необходимого метода анализа.

Для неорганических

проводящих образцов:
Предварительная очистка в растворителях в ультразвуковой ванне, удаление воды

и масел, возможно очистка ионным травлением. Полировка в случае использования дифракционных методов.

Непроводящие образцы покрываются тонким слоем металла – золота, платины, вольфрама. В случае использования рентгеновского микроанализа покрываются углеродом.

Органические образцы – удаление воды температурной обработкой, замещение воды быстро замерзающей субстанцией, быстрое замораживание. Обеспечение проводимости.

Особое внимание возможности повреждения образцов высоковольтным электронным облучением. Радиационные повреждения, электрический пробой накопленного заряда и т.д.
Подготовка образцовПробоподготовка зависит от образца и необходимого метода анализа.Для неорганических проводящих образцов:Предварительная очистка в растворителях в ультразвуковой

Обратная связь

Если не удалось найти и скачать доклад-презентацию, Вы можете заказать его на нашем сайте. Мы постараемся найти нужный Вам материал и отправим по электронной почте. Не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникли вопросы или пожелания:

Email: Нажмите что бы посмотреть 

Что такое TheSlide.ru?

Это сайт презентации, докладов, проектов в PowerPoint. Здесь удобно  хранить и делиться своими презентациями с другими пользователями.


Для правообладателей

Яндекс.Метрика