Слайд 1Дуговые плазменные установки
Слайд 2Плазменная плавка и переплав
Слайд 3Среди разнообразных схем, предлагаемых для обработки и получения металлов с
помощью дуговой плазмы, наиболее перспективны те, в которых используются плазмотроны
прямого действия (анодом является ванна расплавляемого металла). Почти неограниченные возможности повышения мощности и высокий к.п.д. плазмотронов прямого действия обусловили появление реальной возможности их широкого промышленного применения для плавки и переплава высококачественных металлов.
Слайд 4Дуговые печи
Преобразование электрической энергии в тепловую в дуговых печах происходит
в электрической дуге, являющейся одной из форм дугового разряда в
газах. При таком разряде в сравнительно небольшом объеме дуги можно сконцентрировать огромные мощности и получить очень высокие температуры. Высокая концентрация тепла в дуге позволяет с большой скоростью плавить и нагревать металл в дуговых печах до высокой температуры.
Слайд 5Плазменная дуговая печь - электродуговая плавильная печь с керамическим тиглем,
в которой в качестве электродов используются плазматроны, работающие на постоянном
токе прямой полярности. Катодом служит верхний водоохлаждаемый плазмотрон, а анодом - ванна. Находящийся в контакте с жидким металлом подовый электрод изготовляют водоохлаждаемым из меди.
Слайд 6Схемы устройства плазменных печей:
а — с одним плазмотроном в своде,
б —с двумя боковыми плазмотронами;
1 — ванна расплава,
2
— свод,
3 — плазмотроны,
4 — подовый электрод
Слайд 7Плавка шихты происходит за счет теплоты электрической дуги, зажигаемой при
подаче электрического тока в зазоре между торцом сопла плазмотрона и
шихтой или между двумя боковыми плазмотронами.
Слайд 8К недостаткам плазменной плавки следует отнести более высокую стоимость стали
(по сравнению с плавкой в дуговых печах) из-за потребления аргона,
повышенный расход электроэнергии, а также необходимость оснащения печи большим числом водоохлаждаемых узлов, что обусловлено высокой температурой футеровки печи.
Слайд 9Дуговые ионно-плазменные технологии
Слайд 10При зажигании вакуумной дуги, происходит контракция на мишени катода с
образованием катодного пятна, из которого выходит пар испаряемого материала, ионизирующийся
в электрическом поле вблизи катода. Образующаяся при этом плазма практически полностью ионизирована и состоит из многозарядных ионов и капельной фазы материала мишени, доля которой у легкоплавких металлов составляет ~10%, а у тугоплавких металлов ~1%.
Для удаления капель применяются специальные сепараторы.
Слайд 11Области применения дуговых вакуумных ионно-плазменных технологий:
•получение износостойких покрытий для
инструментальной промышленности и машиностроения;
•создание жаро-, коррозие-, эрозиестойких покрытий для
авиационных ГТД и турбин, компрессоров энергетических установок;
•биосовместимые покрытия для медицины, например, для стоматологии;
•декоративные покрытия
Слайд 12Для реализации дуговых ионно-плазменных технологий применяются дуговые испарители, обладающие высокой
скоростью нанесения покрытий. Для них показатель среднего тока на один
испаритель в различных конструкциях колеблется от 50 до 500 А, что указывает на перспективность применения дугового испарения металлов для задач высокоскоростного нанесения покрытий.
Слайд 14Дуговые испарители предназначены для нанесения покрытий в вакууме на различные
детали и изделия.
Слайд 15Работа дуговых источников основана на вакуумном дуговом разряде с интегрально
"холодным" катодом, горящем исключительно в парах материала катода.
При зажигании вакуумной
дуги, происходит контракция на мишени катода с образованием катодного пятна, из которого выходит пар испаряемого материала, ионизирующийся в электрическом поле вблизи катода.
Слайд 16Образующаяся при этом плазма практически полностью ионизирована и состоит из
многозарядных ионов и капельной фазы материала мишени, доля которой у
легкоплавких металлов составляет ~10%, а у тугоплавких металлов ~1%.
Средняя энергия генерируемых ионов высока и достигает для различных материалов 40…100эВ, а степень ионизации вещества катода 50%…90%