Разделы презентаций


Физическая химия твердого тела Химия реального кристалла. Кристаллы с дефектами

Содержание

Предмет курсаФизико-химические закономерности синтеза кристаллов и кристаллических материалов с заранее заданными свойствами

Слайды и текст этой презентации

Слайд 1Физическая химия твердого тела
Химия реального кристалла. Кристаллы с дефектами

Физическая химия твердого телаХимия реального кристалла. Кристаллы с дефектами

Слайд 2Предмет курса
Физико-химические закономерности синтеза кристаллов и кристаллических материалов с заранее

заданными свойствами

Предмет курсаФизико-химические закономерности синтеза кристаллов и кристаллических материалов с заранее заданными свойствами

Слайд 3Литература
П.В.Ковтуненко. Физическая химия твердого тела. Кристаллы с дефектами. М.Высшая школа.1993
Ф.Крегер.

Химия несовершенных кристаллов. М.Мир. 1969
Ю.Д.Третьяков. Твердофазные реакции. М.Наука. 1978
А.М.Гурвич. Введение

в физическую химию кристаллофосфоров. М.Высшая школа. 1982

ЛитератураП.В.Ковтуненко. Физическая химия твердого тела. Кристаллы с дефектами. М.Высшая школа.1993Ф.Крегер. Химия несовершенных кристаллов. М.Мир. 1969Ю.Д.Третьяков. Твердофазные реакции.

Слайд 4Функциональные свойства кристаллов
Оптические
Фотоэлектрические
Пъезоэлектрические

Эмиссионые
Магнитные
Механические
Структурно-чувствительные свойства определяются
кристаллохимическими особенностями вещества
дефектами структуры

твердого тела

Функциональные свойства кристалловОптическиеФотоэлектрическиеПъезоэлектрическиеЭмиссионыеМагнитныеМеханическиеСтруктурно-чувствительные свойства определяются кристаллохимическими особенностями вещества дефектами структуры твердого тела

Слайд 5Химия кристаллов с дефектами
область знаний о формировании в

кристаллических твердых телах структурно-чувствительных свойств, обусловленных дефектностью кристаллической структуры

Химия кристаллов с дефектами  область знаний о формировании в кристаллических твердых телах структурно-чувствительных свойств, обусловленных дефектностью

Слайд 6Понятие «дефект»
Под «дефектом» кристаллической решетки в химии твердого тела следует

понимать структурный элемент кристалла,
оказывающий влияние на свойства кристалла и


отличный от структурных элементов идеального кристалла
Понятие «дефект»Под «дефектом» кристаллической решетки в химии твердого тела следует понимать структурный элемент кристалла, оказывающий влияние на

Слайд 7Идеальный и реальный кристаллы
Идеальный кристалл – кристаллографическая абстракция, описывающее бесконечное

повторение в пространстве характерной для данного типа элементарной ячейки
Реальный

кристалл – твердая кристаллическая фаза, имеющая поверхность раздела, внутренняя структура которой характеризуется определенной элементарной ячейкой, повторяющейся от одной границы поверхности до другой с неполной периодичностью
Идеальный и реальный кристаллыИдеальный кристалл – кристаллографическая абстракция, описывающее бесконечное повторение в пространстве характерной для данного типа

Слайд 8Классификация «дефектов» реального кристалла
по геометрии

Точечные дефекты - единичные дефекты, ассоциаты

нескольких единиц (2-4) точечных дефектов
Протяженные дефекты – линейные ( линейные

дислокации), плоскостные (винтовые дислокации), объемные дефекты (кластеры, пузыри, пустоты)

Классификация «дефектов» реального кристаллапо геометрииТочечные дефекты - единичные дефекты, ассоциаты нескольких единиц (2-4) точечных дефектовПротяженные дефекты –

Слайд 9Классификация «дефектов» реального кристалла
по химической природе

Собственные точечные дефекты – дефекты

нестехиометрии
Примесные точечные дефекты – дефекты за счет легирования инородной примесью

Классификация «дефектов» реального кристаллапо химической природеСобственные точечные дефекты – дефекты нестехиометрииПримесные точечные дефекты – дефекты за счет

Слайд 10Методы исследования дефектов
Кристаллохимический метод – выявляет особенности пространственно-геометрических искажений в

структуре кристаллов, которые возникают при образовании тех или иных видов

дефектов

Термодинамический метод – основан на общих физико-химических закономерностях поведения термодинамческой системы – «кристалл с дефектами –(расплав)-пар»

Методы исследования дефектовКристаллохимический метод – выявляет особенности пространственно-геометрических искажений в структуре кристаллов, которые возникают при образовании тех

Слайд 11Кристаллохимический метод
Изучение неравновесных протяженных дефектов структуры

дислокации
структуры сдвига



Кристаллохимический метод  Изучение неравновесных протяженных дефектов структуры  дислокации  структуры сдвига

Слайд 12Термодинамический метод
Изучение термодинамически равновесных точечных дефектов
вакансий
междоузельных дефектов
анти-структурных

(анти-сайтовых) дефектов
сложных точечных дефектов - ассоциатов

Термодинамический методИзучение термодинамически равновесных точечных дефектов вакансий междоузельных дефектов анти-структурных (анти-сайтовых) дефектов сложных точечных дефектов - ассоциатов

Слайд 13Дефекты в кристалле
перенос вещества
кинетику твердофазных реакций
химическую активность

кристалла при

взаимодействии с другими фазами

оказывают влияние на

Дефекты в кристалле перенос вещества кинетику твердофазных реакций химическую активность кристалла при

Слайд 14Тепловые дефекты
При подводе тепла к кристаллу (Т>0 K)

атомы в кристаллической решетке испытывают тепловые флуктуации и приобретают энергию,

достаточную, чтобы покинуть регулярный узел (Я.Френкель 1926 г.).
Тепловые дефекты  При подводе тепла к кристаллу (Т>0 K) атомы в кристаллической решетке испытывают тепловые флуктуации

Слайд 15Образование дефектов по Френкелю
































































Вакансия
[VA]
Атом в междоузлии [Ai]
i - interstitial

Образование дефектов по ФренкелюВакансия[VA]Атом в междоузлии [Ai]i - interstitial

Слайд 16Образование дефектов по Шоттки










































































Атом на поверхности
Вакансия
[VA]

Образование дефектов по ШотткиАтом на поверхностиВакансия[VA]

Слайд 17Анти-шоттковский дефект








































































Атом с поверхности
Атом в междоузлии [Ai]


Анти-шоттковский дефектАтом с поверхностиАтом в междоузлии [Ai]

Слайд 18Образование антиструктурных дефектов































































Анти-структурный дефект [ABBA]



Образование  антиструктурных дефектов Анти-структурный дефект [ABBA]

Слайд 19Термодинамическая особенность идеального кристалла
Весь кристалл и каждая частица,

расположенная в узле решетки находятся в положении, которому соответствует минимум

потенциальной энергии.

Термодинамическая особенность идеального кристалла  Весь кристалл и каждая частица, расположенная в узле решетки находятся в положении,

Слайд 20Энергия Гиббса кристалла при T≈0 K
N – общее число частиц

в кристалле;
H0 – энергия каждой частицы в регулярном узле

кристалла при Т=0 К;
N3kT ln(hν/kT) – вклад колебательной энергии в энергию Гиббса кристалла при hν<
Энергия Гиббса кристалла  при T≈0 KN – общее число частиц в кристалле;H0 – энергия каждой частицы

Слайд 21Энергия Гиббса кристалла c дефектами по Шоттки при T>0 K
n

– общее число дефектов в кристалле;
ΔHS – теплота образования единичного

дефекта по Шоттки;

Энергия Гиббса кристалла  c дефектами по Шоттки при T>0 Kn – общее число дефектов в кристалле;ΔHS

Слайд 22Энергия Гиббса кристалла c дефектами по Шоттки при T>0 K
-

колебательная энтропия
p – число частиц - соседей вакансии;
ν1 – частота

колебаний этих частиц.

Энергия Гиббса кристалла  c дефектами по Шоттки при T>0 K- колебательная энтропияp – число частиц -

Слайд 23Энергия Гиббса кристалла c дефектами по Шоттки при T>0 K

Энергия Гиббса кристалла  c дефектами по Шоттки при T>0 K

Слайд 24Энергия Гиббса кристалла c дефектами по Шоттки при T>0 K
Конфигурационная

энтропия
W – число способов размещения (конфигурирования) вакансий, образовавшихся по механизму

Шоттки

N+n – число регулярных узлов при шоттковском дефектообразовании за счет достраивания решетки на поверхности
Энергия Гиббса кристалла  c дефектами по Шоттки при T>0 KКонфигурационная энтропияW – число способов размещения (конфигурирования)

Слайд 25Энергия Гиббса кристалла c дефектами по Шоттки при T>0 K
Согласно

формуле Стирлинга

Энергия Гиббса кристалла  c дефектами по Шоттки при T>0 KСогласно формуле Стирлинга

Слайд 26Энергия Гиббса кристалла c дефектами по Шоттки при T>0 K

Энергия Гиббса кристалла  c дефектами по Шоттки при T>0 K

Слайд 27Концентрация равновесных тепловых дефектов по Шоттки
Термодинамическое равновесие характеризуется минимумом свободной

энергии Гиббса
после дифференцирования получаем

Концентрация равновесных тепловых дефектов по ШотткиТермодинамическое равновесие характеризуется минимумом свободной энергии Гиббсапосле дифференцирования получаем

Слайд 28Концентрация равновесных тепловых дефектов по Шоттки
После несложных преобразований имеем
после потенцирования

получаем

Концентрация равновесных тепловых дефектов по ШотткиПосле несложных преобразований имеемпосле потенцирования получаем

Слайд 29Концентрация равновесных тепловых дефектов по Шоттки
- мольная доля вакансий в

кристалле
- энтропийный множитель

Концентрация равновесных тепловых дефектов по Шоттки- мольная доля вакансий в кристалле- энтропийный множитель

Слайд 30Концентрация равновесных тепловых дефектов по Шоттки
логарифмируем выражение и получаем
Полученное выражение

является уравнением изотермы реакции образования дефектов по Шоттки

Концентрация равновесных тепловых дефектов по Шотткилогарифмируем выражение и получаемПолученное выражение является уравнением изотермы реакции образования дефектов по

Слайд 31

Концентрация равновесных тепловых дефектов по Шоттки
логарифмируем выражение и получаем
Полученное выражение

является уравнением изотермы реакции образования дефектов по Шоттки

Концентрация равновесных тепловых дефектов по Шотткилогарифмируем выражение и получаемПолученное выражение является уравнением изотермы реакции образования дефектов по

Слайд 32Концентрация равновесных тепловых дефектов по Шоттки
учитывая выражение для предэкспоненциального множителя
Колебательная

составляющая энтропии кристалла с дефектами по Шоттки выглядит следующим образом

Концентрация равновесных тепловых дефектов по Шотткиучитывая выражение для предэкспоненциального множителяКолебательная составляющая энтропии кристалла с дефектами по Шоттки

Слайд 33Концентрация равновесных тепловых дефектов по Шоттки
В случае бинарного кристалла АВ,

в котором присутствуют тепловые дефекты в обоих подрешетках молярная концентрация

вакансий обоих типов описывается выражением

p,q – число частиц, окружающих одну катионную и одну анионную вакансии;
ν1,ν2 – частоты их колебаний;
ΔHs – теплота образования пары вакансий;

Концентрация равновесных тепловых дефектов по ШотткиВ случае бинарного кристалла АВ, в котором присутствуют тепловые дефекты в обоих

Слайд 34Концентрация равновесных тепловых дефектов по Френкелю
Конфигурационная энтропия
N

– число регулярных узлов при френкелевском

дефектообразовании остается неизменным
Ni – общее число междоузлий при Т=0 К
n – число занятых междоузлий при Т>0 К
Ni - n – число свободных междоузлий при Т>0 К
N - n – число вакансий при Т>0 К
Концентрация равновесных тепловых дефектов по ФренкелюКонфигурационная энтропия   N 	– число регулярных узлов при френкелевском

Слайд 35Концентрация равновесных тепловых дефектов по Френкелю
n – число вакансий, равное

числу интерстициальных частиц;
p – число частиц, окружающих одну вакансию;
q –

число частиц, окружающих одну интерстициальну частицу;
ν1– частота колебаний интерстициальной частицы;
ν2 – частота колебаний частиц-соседок вакансий;
ν3 – частота колебаний частиц-соседок интерстициальной частицы;
ΔHF – теплота образования одного френкелевского дефекта

Концентрация равновесных тепловых дефектов по Френкелюn – число вакансий, равное числу интерстициальных частиц;p – число частиц, окружающих

Слайд 36Концентрация равновесных тепловых дефектов по Френкелю
после преобразований имеем

Концентрация равновесных тепловых дефектов по Френкелюпосле преобразований имеем

Слайд 37Концентрация равновесных тепловых дефектов по Френкелю
после преобразований и логарифмирования имеем
Потенцирование

и перемена знаков приводит к выражению

Концентрация равновесных тепловых дефектов по Френкелюпосле преобразований и логарифмирования имеемПотенцирование и перемена знаков приводит к выражению

Слайд 38Концентрация равновесных тепловых дефектов по Френкелю
к виду
Исходя из соотношения между

общим числом узлов в кристалле и междоузлий Ni= αN ,

где α -некая константа для рассматриваемой кристаллической структуры, концентрация френкелевских вакансий определяется выражением
Концентрация равновесных тепловых дефектов по Френкелюк видуИсходя из соотношения между общим числом узлов в кристалле и междоузлий

Слайд 39Равновесные тепловые дефекты по Шоттки и по Френкелю

Равновесные тепловые  дефекты по Шоттки и по Френкелю

Обратная связь

Если не удалось найти и скачать доклад-презентацию, Вы можете заказать его на нашем сайте. Мы постараемся найти нужный Вам материал и отправим по электронной почте. Не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникли вопросы или пожелания:

Email: Нажмите что бы посмотреть 

Что такое TheSlide.ru?

Это сайт презентации, докладов, проектов в PowerPoint. Здесь удобно  хранить и делиться своими презентациями с другими пользователями.


Для правообладателей

Яндекс.Метрика