Полупроводниковые соединения AIIIBV

Они образуются в результате взаимодействия элементов III-а подгруппы Периодической таблицы

(бора, алюминия, галлия, индия) с элементами V-а подгруппы (азотом, фосфором, мышьяком и сурьмой).

Висмут и таллий не образовывают соединений рассматриваемого ряда.

Соединения AIIIBV принято классифицировать по металлоидному элементу V группы.

Соответственно, различают
нитриды
фосфиды
арсениды
антимониды.

по сравнению с элементарными полупроводниками и полупроводниковыми соединениями набор электрофизических

параметров, определяющих возможности применения материалов в конкретных полупроводниковых приборах.

Среди соединений AIIIBV распространены твердые растворы замещения.
Необходимые условия образования твердых растворов:
кристаллохимическое подобие кристаллических решеток соединений-компонентов
близость их периодов идентичности.

растворы, в которых замещение происходит лишь по одной из подрешеток

бинарного соединения (металлической или металлоидной).

Состав таких твердых растворов принято характеризовать символами
AxB1-xC и ACyD1-y ,

где A и B обозначают элементы III группы,
C и D - элементы V группы.

В формуле AxB1-xC индекс х обозначает мольную долю соединения A в твердом растворе.

Если твердые растворы существуют во всем диапазоне, то х может меняться от 0 до 1.

обладают p-типом проводимости с концентрацией свободных дырок около 1014 см-3.

Общепринято считать, что ответственной за это фоновой примесью является выступающий в роли мелкого акцептора углерод с энергией связи 26 мэВ. Наличие углерода в слоях преимущественно обусловлено взаимодействием CO и CO2, присутствующих в ростовой камере, с Ga и As на поверхности подложки.

Фоновые примеси, такие как Mn и Si, а также другие, не индетифицированные мелкие доноры, в общем, зависят от предыстории системы или могут быть отнесены к загрязнениям, связанным с некоторыми компонентами системы МЛЭ, нагреваемыми в процессе роста до высоких температур. В таких случаях степень загрязнения растущих пленок может быть уменьшена путем тщательного подбора конструктивных материалов, материалов источников и компоновкой ростовой камеры. Наконец, непосредственно исходные твердые полупроводниковые материалы могут иметь плохое качество очистки.

и AlGaAs используется Be, создающий мелкий уровень (~28 мэВ) вблизи

валентной зоны.
Коэффициент прилипания и электрическая активность Be (т.е. соотношение ионизированных и нейтральных атомов Be) близка к единице вплоть до концентраций ~5 1019 см-3. Для повышения концентрации бериллия в материалах необходимо поддерживать температуру подложки ниже 550оС.

Для материалов, растущих при более низких температурах, таких как InP или GaInAs, в качестве альтернативной Be примеси служит Mg, так как он менее токсичен и электрические и оптические свойства получаемых слоев сравнимы со свойствами слоев, легированных Be. Однако с повышением температуры роста коэффициент прилипания магния резко уменьшается и составляет ~10-3 при 600оС. Магний может быть использован как примесь р - типа вплоть до концентраций 1018см-3. Выше этих концентраций морфология поверхности сильно деградирует из-за образования комплексов Mg-As. По этой причине, а также учитывая, что акцепторный уровень, создаваемый Mg, относительно глубок, использование Mg, как легирующей примеси при изготовлении приборных структур не рекомендуется.

Элементы II группы Zn и Сd, которые нашли широкое применение при легировании в жидкофазной или парофазной эпитаксии, обладают давлением насыщенных паров, намного превышающим давление паров Ga при температуре роста пленки. Попытки ввести эти примеси путем термического испарения из эффузионных ячеек в процессе МЛЭ к успеху не привели.

и родственных материалов. Наиболее привлекательными свойствами Si как примеси n-типа,

замещающей в узле атом Ga, является его коэффициент прилипания, близкий к единице, и малый коэффициент диффузии. Предел растворимости Si лежит в области ~5 1018 см-3 при стандартной температуре роста. Выше этого предела наблюдаются выделения второй фазы. Определенная степень компенсации Si проявляется из-за амфортерной природы Si. Кремний может также встраиваться в подрешетку As, замещая узельные атомы As. При стандартных ростовых условиях степень автокомпенсации составляет 10 %.

Преимущественное внедрение Si в подрешетку As происходит при температурах роста выше 600оС и малых соотношениях потоков As4/Ga, т.е. когда поверхность обеднена As. Из-за небольшой степени автокомпенсации в слоях, легированных Si наблюдается высокая подвижность носителей заряда. Наилучший результат, полученный на момент написания данного пособия, составляет 160000 см2/(В с) при Т=77 К.

и его введение меняет тип проводимости GaAs в зависимости от

условий роста (стабилизированных либо As либо Ga). Из-за такого амфотерного поведения и температура подложки, и соотношение As4/Ga должны строго контродироваться для того, чтобы получить желаемую концентрацию свободных носителей.
Благодаря отсутствию амфотерных свойств, а также относительно низким температурам испарения, Sn широко используется в качестве донорной примеси в GaAs. Легированные оловом слои GaAs демонстрируют исключительные люминесцентные свойства, обусловленные, вероятно, низкой степенью самокомпенсации. Однако процесс внедрения Sn очень сложный, так как он проявляет склонность к накоплению на поверхности при росте эпитаксиальных пленок. Накопление и последующее встраивание Sn зависит от температуры положки, степени покрытия поверхности As и потока Sn. В результате невозможно добиться резкого изменения профиля легирования путем простого изменения падающего пучка Sn. Так что контроль профиля легирования атомами олово значительно более сложный, чем легирование кремнием.
Элементы VI группы S, Se, Te не могут быть введены в элементарном виде из-за высокого давления паров этих элементов при стандартных температурах роста. Используются различные халькогениды типа PbS, PbSe, PbTe.