Весна 2016
Лекция 10
Интегральные микросхемы (часть 2)
Производство интегральных микросхем
Лекция 10
Интегральные микросхемы (часть 2)
Производство интегральных микросхем
Производство интегральных микросхем
Основные этапы:
Изготовление монокристалла
2. Разрезка монокристалла на пластины и их подготовка
3. Формирование слоев
4. Металлизация
5. Резка пластин
6. Установка в корпус
Изготовление монокристалла методом Чохральского
1-Тигель с расплавом
2. – печь
3 – затравка
4 – холодильник
5 – механизм вытягивания
Разрезка монокристалла на пластины
Схема формирования слоев методом фотолитографии
Нанесение защитной пленки диэлектрика SiO2
Нанесение фоторезистива
Формирование рисунка
Фотошаблон
Установка EUV-литографии
Установка EUV-литографии
Травление
Схема установки травления, промывки и сушки
1 – ротор
2 – днище камеры с отверстием
3 – форсунка сушки
4 – форсунка травления и отмывки
5 – платформа с пластинами
6 – съемная крышка
Формирование слоев
(диффузия)
Рабочая камера диффузионной печи
Метод ионной имплантации
Метод ионной имплантации
Ломка пластин на отдельные кристаллы
Установка в корпус
Технология
«напряженный кремний»
Если не удалось найти и скачать доклад-презентацию, Вы можете заказать его на нашем сайте. Мы постараемся найти нужный Вам материал и отправим по электронной почте. Не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникли вопросы или пожелания:
Email: Нажмите что бы посмотреть