Разделы презентаций


Физическое материаловедение Активационная спектроскопия

Содержание

Корреляционная спектроскопия при ступенчатом нагревеIsothermic decaymeasurements of TSEE, TSL and desorption yieldsI (Ar)=15.75 eVI (N)= 14.54 eVN+ + e- → N* → N + hν(522 nm)N2 - Ar

Слайды и текст этой презентации

Слайд 1Физическое материаловедение
Активационная спектроскопия

Физическое материаловедениеАктивационная спектроскопия

Слайд 2Корреляционная спектроскопия при ступенчатом нагреве
Isothermic decay
measurements of
TSEE, TSL and


desorption yields
I (Ar)=15.75 eV
I (N)= 14.54 eV

N+ + e- →

N* → N + hν(522 nm)

N2 - Ar

Корреляционная спектроскопия при ступенчатом нагревеIsothermic decaymeasurements of TSEE, TSL and desorption yieldsI (Ar)=15.75 eVI (N)= 14.54 eVN+

Слайд 3Принципиальная схема установки для исследования материалов
методами термо- и оптикостимулированной

люминесценции
McKeever
Измерение общего выхода
TSL & OSL
Гораздо больше информации
дает измерение спектрально
разрешенной

TSL & OSL
Принципиальная схема установки для исследования материалов методами термо- и оптикостимулированной люминесценцииMcKeeverИзмерение общего выходаTSL & OSLГораздо больше информации

Слайд 4McKeever
Процессы возбуждения и стимулированной люминесценции

McKeeverПроцессы возбуждения и стимулированной люминесценции

Слайд 5I(t)=N0 Pσ exp(- Pσ t),
N0 – начальная концентрация электронов в

ловушке
P – плотность фотонов,
σ – сечение фотоионизации
P может быть

постоянным, случай “CW-OSL”,
P может быть импульсным, случай “POSL”

σ может быть постоянным (при фиксированной длине волны, как в случае “CW-OSL” или “POSL”,
σ может зависеть отвремени, как, например, при сканировании по длинам волн)

Описание оптически стимулированной люминесценции

Кинетика 1 порядка,
Одна ловушка

Для нескольких ловушек интенсивности суммируются

I(t)=N0 Pσ exp(- Pσ t),N0 – начальная концентрация электронов в ловушкеP – плотность фотонов, σ – сечение

Слайд 6Примеры оптически стимулированной люминесценции
McKeever, LUMDETR Summer school, 2009

Примеры оптически стимулированной люминесценцииMcKeever, LUMDETR Summer school, 2009

Слайд 7Оптически стимулированная люминесценция и экзоэлектронная эмиссия
Ar
Внешний источник фотонов
Nc=N0g(t)τcexp(-gt),
g(t)=Pσ=const
Ar2++e-  Ar2*

 Ar+Ar+h (M-band)
N0 – initial concentration of electrons in traps,
P

– photon density,
σ – photon-electron interaction cross section, τc – lifetime of electron in the conduction band

LTP, 31 (2005) 179

Оптически стимулированная люминесценция и экзоэлектронная эмиссияArВнешний источник фотоновNc=N0g(t)τcexp(-gt),g(t)=Pσ=constAr2++e-  Ar2*  Ar+Ar+h (M-band)N0 – initial concentration of

Слайд 8Оптически стимулированная экзоэлектронная эмиссия из глубоких и мелких ловушек
PSEE –

total yield (curve 1)
Contribution of deep electron
traps to PSEE (curve

2 taken
after annealing).

Yield of PSEE from pre-irradiated
sold Ar doped with O2 under irradiation
by laser light (2.71 eV).

Оптически стимулированная экзоэлектронная эмиссия из глубоких и мелких ловушекPSEE – total yield (curve 1)Contribution of deep electrontraps

Слайд 9Optical fading, retrapping
Solid Ar pre-irradiated by 500 eV electron

beam
TSEE measurements were performed after exposure to laser
Bleaching of low-temperature

peaks and enhancement of high-temperature ones
Optical fading, retrapping Solid Ar pre-irradiated by 500 eV electron beamTSEE measurements were performed after exposure to

Слайд 10

2D 4S (E=2.37 eV )
Nc = N0

g(t)c exp(-gt), g(t)=g0exp(-t/)

Оптически стимулированная люминесценция OSL

Characteristic time of the emissions  = 20 s ( 4s)

Внутренний источник фотонов!

2D 4S (E=2.37 eV )Nc

Слайд 11A3u+  X1 g+
N2+ + e  N2*  N2

+ h1; N + N  N2*  N2 + h2
Термостимулированные

реакции нейтрализации и атом-атомной рекомбинации в твердом Ar, допированном N2

„hot“ band 31151 cm-1;
„cold“ band 36061 cm-1

A3u+  X1 g+N2+ + e  N2*  N2 + h1;		N + N  N2* 

Слайд 12Комбинированная термо- и оптически стимулированная люминесценция
Stimulation of electron detrapping
via

radiative transition of O2*
formed under heating of
pre-irradiated sample

.

O + O  O2*  O2 + h

Комбинированная термо- и оптически стимулированная люминесценцияStimulation of electron detrapping via radiative transition of O2* formed under heating

Слайд 13Эффект лазерно-индуцированной нейтрализации
O2-doped Ar ices
J. Phys. Chem. A 115

(2011) 7258
pre-irradiated with 1 keV electron beam

Эффект лазерно-индуцированной нейтрализации O2-doped Ar icesJ. Phys. Chem. A 115 (2011) 7258pre-irradiated with 1 keV electron beam

Слайд 14Anomalous low temperature “post-desorption”
Correlation between TSEE, TSL and ALTpD peaks

suggests common primary process triggering these phenomena – release of

electrons from their traps.

Crowdion mechanism of energy transport to the surface.
Crowdion /b = 2.76 (b is the interatomic distance)
parameters m = 0.3 (in units of the atomic mass)
The crowdion energy in Ar Es = 0.3 eV.
V.D. Natsik, S.N. Smirnov, and Y.I. Nazarenko,
Low Temp. Phys. 27 (2001) 1295.

Anomalous low temperature “post-desorption”Correlation between TSEE, TSL and ALTpD peaks suggests common primary process triggering these phenomena

Слайд 15Дозовые зависимости релаксационных эмиссий

Дозовые зависимости релаксационных эмиссий

Слайд 16Potential curves of Ar2+ and Ar2*
and relaxation paths
Ar2+ +

e → Ar2* + ΔE →
Ar + Ar +

hν (VUV)+ ΔE
Potential curves of Ar2+ and Ar2* and relaxation pathsAr2+ + e → Ar2* + ΔE → Ar

Слайд 17Оптически стимулированная десорбция «горячих» молекул аргона

Оптически стимулированная десорбция «горячих» молекул аргона

Слайд 18Накопление заряда
Sample thickness – 100 m

Subthreshold irradiation!

Ee = 500 eV
Current

density – 30 Acm-2
Irradiation time – 20 min

Heating mode –

linear
Speed of heating – 3.2 Kmin-1

Observation of TSEE at negative
potential at Faraday plate suggests
accumulation of excess electrons

Ar

Накопление зарядаSample thickness – 100 mSubthreshold irradiation!Ee = 500 eVCurrent density – 30 Acm-2Irradiation time – 20

Слайд 19Схема установки для исследования материалов методом термостимулированной проводимости

Схема установки для исследования материалов методом термостимулированной проводимости

Слайд 20Система автоматического регулирования температуры
САРТ
1 – образец
2 – датчик температуры
3 –

устройство, задающее Т
4 – пульт оператора
5 – устройство сравнения
6 –

вычислительное устройство
7 – исполнительное устройство
8 – нагреватель образца
9 – корректирующее устройство
10 – устройство индикации
Система автоматического регулирования температурыСАРТ1 – образец2 – датчик температуры3 – устройство, задающее Т4 – пульт оператора5 –

Слайд 21Схема измерительной системы
1 – образец, 2 – подложка, 3 –

измерительная камера, 4,5 – термопары, 6 – терморегулятор, 7 –

сосуд со льдом, 8,9 – устройства нагрева и охлаждения, 10 – потенциометр, 11 – электрометрический усилитель, 12 – измерительное сопротивление, 13 – потенциометр, 14 – источник стабилизированного напряжения, К1 – ключ в положении «измерение», К2 - ключ в положении «возбуждение образца»(для поляризации или измерения проводимости).
Схема измерительной системы1 – образец, 2 – подложка, 3 – измерительная камера, 4,5 – термопары, 6 –

Слайд 22Схема автоматизированной установки на основе ПК

Схема автоматизированной установки на основе ПК

Слайд 236H-SiC
Z-Q. Fang et al
Термостимулированные токи

6H-SiCZ-Q. Fang et alТермостимулированные токи

Слайд 24Наведенное поглощение
Я.А. Бояринцева, Автореферат , 2013 «Радіаційно-стимульовані процеси в діелектричних

матрицях
M1-хRхF2+х (M2+=Cа, Sr, Ba, R3+=Ce, Pr, x=0.35)»

Наведенное поглощениеЯ.А. Бояринцева, Автореферат , 2013 «Радіаційно-стимульовані процеси в діелектричних матрицях M1-хRхF2+х (M2+=Cа, Sr, Ba, R3+=Ce, Pr,

Слайд 25Литература:

1. Ч.Б. Лущик ЖЭТФ (1956) 3, 390.
2. J.T. Randall and

M.H.F. Wilkins, Proc. Roy Soc. London (1945) 184, 366, 390.
3.

Ф. Даниельс, Ч. Бойд, Д. Саундерс, УФН (1953) L1, 271.
4. D.R. Vij Thermoluminescence in Luminescence of Solids, Plenum Press New York 1998, р. 271-307.
5. Ю.А. Гороховатский, Г.А. Бордовский, Термоактивационная токовая спектроскопия высокоомных полупроводников и диэлектриков, Москва, Наука 1991, с. 243.
6. http://www.xumuk.ru
Литература:1. Ч.Б. Лущик ЖЭТФ (1956) 3, 390.2. J.T. Randall and M.H.F. Wilkins, Proc. Roy Soc. London (1945)

Обратная связь

Если не удалось найти и скачать доклад-презентацию, Вы можете заказать его на нашем сайте. Мы постараемся найти нужный Вам материал и отправим по электронной почте. Не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникли вопросы или пожелания:

Email: Нажмите что бы посмотреть 

Что такое TheSlide.ru?

Это сайт презентации, докладов, проектов в PowerPoint. Здесь удобно  хранить и делиться своими презентациями с другими пользователями.


Для правообладателей

Яндекс.Метрика