МГТУ им.Н.Э.Баумана Москва, 2018 Электрохимическое осаждение благородных

8-81 Преподаватель: Пахомова С.А.

прошедшего через электролит;
2) массы различных веществ, осажденных на электроде

или удаленных вследствие их растворения при прохождении через электролит такого же количества электричества, прямо пропорциональны химическим эквивалентам этих веществ.

W = IEt/F

Основные законы, описывающие электролиз Законы Фарадея

Объединенный закон электролиза математически можно представить в виде:

W – масса осажденного вещества [г] I – ток [A] E – химический эквивалент вещества [г] t – время процесса [c] F – число Фарадея

краям и на выпуклых участках подложки;

получаемые пленки обладают меньшей пористостью,

чем электроосажденные пленки;

возможно осаждение пленок на непроводящие подложки после предварительной обработки, придающей их поверхности каталитическую активность

Достоинства

четыре стадии:

электролитическая диссоциация соли в растворе;
перенос ионов из объема электролита

к электроду;
переход ионов на границе фаз из объема электролита к металлу;
диффузия адсорбированных атомов по поверхности электрода к местам роста пленки и встраивание атомов в кристаллическую решетку.

под действием приложенного электрического поля

Диффузия, связанная с наличием градиента концентрации

ионов

свойства получаемых пленок:
Плотность тока

Характеристики электролитической ванны

Значение pH

Температура ванны

Форма электрода

Встречный электрод

Перемешивание

электролита

Особенности процесса роста (а) и зависимость состава пленок, получаемых методом электроосаждния от температуры и плотности тока при различной продолжительности процесса (б)

двумерные - одномерные

Формы роста покрытия (феноменологическая картина роста Фишера):

- FI (выделение

с ориентацией на поле) - BR (воспроизведение с ориентацией на основу-подложку)
- Z (переход с помощью двойникования)
- FT (текстура с ориентацией на поле)
- UD (рассеяния без ориентации)

υ1 — скорость подвода ионов Н+;
υ2 — скорость подвода Н20 и

кислот;
υно — скорость изменения рН перед электродом;
υ3 — скорость образования молекулярного водорода Н2;
υ4 — скорость внедрения водорода в металл;
υ5 — скорость образования других соединений с участием водорода

Н2 ↔ 2Н + 2е-
Н2 + 2ОН-  ↔ 2Н2О + 2е-

благородных металлов

слоя металлических и керамических изделий - Защитно-декоративная отделка (бытового назначения и

в ювелирной промышленности (полируются или оксидируются (состаренное серебро).

Золочение:
- ювелирная промышленность - часовая индустрия - производство точных приборов (разновесы аналитических весов и лабораторные приборы)

Осаждение платины: - для покрытия нерастворимых титановых, танталовых электродов
- зеркала

Осаждение палладия:
- зеркала высокой отражательной способности
- электротехническая промышленность (контакты с неизменной электропроводимостью)
- покрытия повышенной износостойкости и коррозионной стойкости

