Разделы презентаций


Методы атомно-силовой зондовой микроскопии

Содержание

Межатомное взаимодействие(силы Ван-дер-Ваальса)Потенциал Леннарда Джонсана больших расстояниях зонд испытывает притяжение со стороны образца (дипольное взаимодействие) бесконтактная АСМна малых расстояниях – отталкивание контактная АСМРегистрация сил межатомного взаимодействия между концом

Слайды и текст этой презентации

Слайд 1Методы атомно-силовой зондовой микроскопии

Методы атомно-силовой зондовой микроскопии

Слайд 2Межатомное взаимодействие
(силы Ван-дер-Ваальса)
Потенциал Леннарда Джонса
на больших расстояниях зонд испытывает притяжение

со стороны образца
(дипольное взаимодействие) бесконтактная АСМ
на малых расстояниях – отталкивание контактная

АСМ
Регистрация сил межатомного взаимодействия между концом зонда и поверхностью образца

Принцип действия АСМ

ULD(r) = –a/rm + b/rn

Межатомное взаимодействие(силы Ван-дер-Ваальса)Потенциал Леннарда Джонсана больших расстояниях  зонд испытывает притяжение  со стороны образца (дипольное взаимодействие)

Слайд 3Принципы работы СЗМ
Система обратной связи (ОС)
контролирует расстояние между зондом

и образцом, используя параметр взаимодействия зонда и образца с взаимно

однозначной зависимостью от расстояния Р(z)
ОС поддерживает P постоянным P = P0, изменяя напряжение на z-сканере
Сигнал на Z-сканере пропорционален рельефу поверхности
Точность удержания расстояния зонд-поверхность ~ 0,01 Å
Принципы работы СЗМСистема обратной связи (ОС) контролирует расстояние между зондом и образцом, используя параметр взаимодействия зонда и

Слайд 4Принципы работы СЗМ
Формирование СЗМ изображения
сканирование в плоскости X,Y позволяет получить

СЗМ изображение поверхности
сканирующие элементы изготавливаются из пьезоэлектриков, которые изменяют свои

размеры во внешнем электрическом поле
Одновременно с рельефом можно получать распределения различных свойств поверхности
механических
электрических
магнитных
Принципы работы СЗМФормирование СЗМ изображениясканирование в плоскости X,Y позволяет получить СЗМ изображение поверхностисканирующие элементы изготавливаются из пьезоэлектриков,

Слайд 5Принципы работы СЗМ
Исследование рельефа поверхности и ее локальных свойств проводится

с помощью специальных зондов – игл с радиусом закругления ~

10 нм
Характерное расстояние между зондом и поверхностью ~ 0,1 ÷ 10 нм
Расстояние между зондом и образцом контролирует система обратной связи
Принципы работы СЗМИсследование рельефа поверхности и ее локальных свойств проводится с  помощью специальных зондов – игл

Слайд 6Зондовые датчики АСМ
Зондовый датчик - упругий кантилевер (консоль) с острым

зондом на конце
сила, действующая на зонд со стороны поверхности, приводит

к изгибу кантилевера
регистрация величины изгиба D=– F/k закон Гука связывает изгиб кантилевера D, силу взаимодействия F и упругость кантилевера k
контроль силы взаимодействия зонда с поверхностью
Зонд и кантилевер изготавливается методами фотолитографии и травления
кантилевер формируется из тонких слоев Si, SiO2 или Si3N4
один конец жестко закреплен на кремниевом держателе
на другом конце зонд
Зондовые датчики АСМЗондовый датчик - упругий кантилевер (консоль) с острым зондом на концесила, действующая на зонд со

Слайд 7Геометрические параметры зонда
радиус закругления 1 ÷ 50 нм
угол при вершине

зонда 10 ÷ 20º
Резонансная частота кантилеверов
контактные 7÷28 кГц
бесконтакные 90÷630 кГц
Сила взаимодействия зонда

с поверхностью F = k ⋅ ΔZ
ΔZ – характеризует изгиб кантилевера
k = 10-3÷10 Н/м коэффициент жесткости кантилевера
Проводящие покрытия для электрических измерений Au, Pt, Cr, W, Mo, Ti, W2C
Ферромагнитные покрытия для магнитных измерений Co, Fe, CoCr, FeCr, CoPt

Зондовые датчики АСМ

Геометрические параметры зондарадиус закругления		1 ÷ 50 нм угол при вершине зонда	10 ÷ 20ºРезонансная частота кантилеверовконтактные		7÷28 кГцбесконтакные	 	90÷630

Слайд 8Типы АСМ кантилеверов
V-образный кантилевер (контактная АСМ мода)
I-образный кантилевер (бесконтактная АСМ мода)
Si3N4
Si
r

50 нм
F = 5  50 нН
k = 0.03 

0.4 Н/м
f = 15  70 кГц

r < 20 нм
F ~ 1 пН
k = 25  100 Н/м
f = 160  420 кГц

Типы АСМ кантилеверовV-образный кантилевер (контактная АСМ мода)I-образный кантилевер (бесконтактная АСМ мода)Si3N4Sir < 50 нмF = 5 

Слайд 9Вид зонда в электронном микроскопе
Монокристаллический Si
Натуральный алмаз
PECVD Si3N4
Параметр Модуль Юнга

Плотность Микротвердость

(E) (ρg) (E/ρ) (GPa) (kg/m3)
Diamond 900–1050 3515 78.4–102
Si3N4 310 3180 19.6
Si 130–188 2330 9–10
Вид зонда в электронном микроскопеМонокристаллический SiНатуральный алмазPECVD Si3N4Параметр Модуль Юнга Плотность Микротвердость

Слайд 10Различные типы зондов
Вторично эмиссионное изображение зонда с использованием углеродной нанотрубки

Различные типы зондовВторично эмиссионное изображение зонда с использованием углеродной нанотрубки

Слайд 11Принцип действия АСМ
Оптическая регистрация изгиба кантилевера
лазер фокусируется на кантилевере
отраженный пучок

попадает в центр четырехсекционного фотодиода

Принцип действия АСМОптическая регистрация изгиба кантилевералазер фокусируется на кантилевереотраженный пучок попадает в центр четырехсекционного фотодиода

Слайд 12Оптический силовой сенсор АСМ
Параметры, регистрируемые оптической системой
изгиб кантилевера под действием

Z-компонент сил притяжения или отталкивания (Fz)
ΔIz=(ΔI1+ΔI2)−(ΔI3+ΔI4)
кручение кантилевера под

действием латеральных компонент сил (FL)
ΔIL=(ΔI1+ΔI4)−(ΔI2+ΔI3)
Оптический силовой сенсор АСМПараметры, регистрируемые оптической системойизгиб кантилевера под  действием Z-компонент  сил притяжения  или

Слайд 13Интерферометрические схемы контроля отклонения кантилевера
Интерференция возникает за счет разницы путей

света опорного и отраженного. Использование дополнительного модулятора позволяет повысить чувствительность

за счет синхронного детектирования
Интерферометрические схемы контроля отклонения кантилевераИнтерференция возникает за счет разницы путей света опорного и отраженного. Использование дополнительного модулятора

Слайд 14Система обратной связи АСМ
Система ОС обеспечивает ΔLz=const
Z-сканер поддерживает изгиб кантилевера

ΔZ = ΔZ0, задаваемый оператором
Напряжение на Z-сканере пропорционально рельефу поверхности

Система обратной связи АСМСистема ОС  обеспечивает  ΔLz=constZ-сканер  поддерживает  изгиб  кантилевера  ΔZ

Слайд 15Роль обратной связи в АСМ
VS
Verr=V-VS
VC=VP+VI+VD
Пропорциональная компонента VP отвечает за отклик

на резкие изменения сигнала ошибки Verr
Интегральная компонента VI – низкочастотный

отклик: крупные детали рельефа, общий наклон
Дифференциальная компонента VD – стабилизация, гашение нежелательных осцилляций
Роль обратной связи в АСМVSVerr=V-VSVC=VP+VI+VDПропорциональная компонента VP отвечает за отклик на резкие изменения сигнала ошибки VerrИнтегральная компонента

Слайд 16Работа обратной связи АСМ
Изменение сигнала ошибки и напряжения на Z-сканере

при измерении ступеньки рельефа
Медленная ОС
Быстрая ОС

Работа обратной связи АСМИзменение сигнала ошибки и напряжения на Z-сканере при измерении ступеньки рельефаМедленная ОСБыстрая ОС

Слайд 17Контактные АСМ методики
Остриё зонда находится в непосредственном механическом взаимодействии с

поверхностью
Силы взаимодействия с образцом уравновешиваются силой упругости кантилевера
Метод постоянной

силы
Система ОС поддерживает постоянной величину изгиба кантилевера (Fz = const)
Напряжение на z-сканере пропорционально рельефу поверхности
Контактные АСМ методикиОстриё зонда находится в непосредственном механическом взаимодействии с поверхностьюСилы взаимодействия с образцом уравновешиваются силой упругости

Слайд 18Контактные АСМ методики
Метод постоянной высоты
Реализуется для образцов с малыми перепадами высоты

~ несколько Å
Отключенная ОС
Регистрация изгиба кантилевера ΔZ ~ Fz
Полученное изображение

характеризует пространственное распределение Fz
Контактные АСМ методикиМетод постоянной высотыРеализуется для образцов с малыми перепадами  высоты ~ несколько ÅОтключенная ОСРегистрация изгиба

Слайд 19Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Примеры АСМ изображений
30 мкм х

30 мкм
Аморфное
металлическое стекло
9 нм х 8 нм
Атомная решетка MoTe2
Силовое изображение (H=const

контактная мода)

Топография (F=const контактная мода)

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииПримеры АСМ изображений30 мкм х 30 мкмАморфноеметаллическое стекло9 нм х 8 нмАтомная

Слайд 20Метод постоянного рассогласования
Сигнал Рассогласования системы обратной связи, возникающий в процессе

сканирования с использованием Метода Постоянной Силы содержит дополнительную информацию относительно

рельефа поверхности. Он может быть использован для более полного воспроизведения рельефа.

Если скорость отработки сигнала рассогласования устанавливается такой, чтобы система была способна отрабатывать относительно гладкие особенности рельефа она не сможет отрабатывать крутые ступеньки. Сигнал рассогласования будет содержать данные о резких шероховатостях. Такой способ отображения может быть полезным для поиска небольших неоднородностей на большом относительно гладком фоне.
Метод постоянного рассогласованияСигнал Рассогласования системы обратной связи, возникающий в процессе сканирования с использованием Метода Постоянной Силы содержит

Слайд 21Микроскопия поперечных сил
Регистрация кручения кантилевера под действием латеральных компонент сил
различает

области с различными коэффициентами трения
подчеркивает особенности рельефа
возможно использование

одновременно с получением рельефа поверхности
Микроскопия поперечных силРегистрация кручения  кантилевера под действием  латеральных компонент силразличает области с различными  коэффициентами

Слайд 22Микроскопия поперечных сил
Для малых отклонений угол закручивания пропорционален поперечной (латеральной)

силе. Торсионное закручивание кантилевера измеряется оптической следящей системой микроскопа.

При

сканировании поверхности с участками с различными коэффициентами трения угол скручивания меняется на каждом участке. Это позволяет проводить измерения локальной силы трения. Для того, чтобы различить участки с различными коэффициентами трения и неоднородности рельефа необходимо использовать второй проход в противоположном направлении.

Метод Латеральных Сил имеет важное значение при исследованиях полупроводников, полимеров, пленочных покрытий, запоминающих сред, при изучениях поверхностных загрязнений, химических особенностей и фрикционных характеристик, и т. д…
Микроскопия поперечных силДля малых отклонений угол закручивания пропорционален поперечной (латеральной) силе. Торсионное закручивание кантилевера измеряется оптической следящей

Слайд 23Микроскопия поперечных сил
Сегнетоэлектрические пленки PZT 30/70 +10 PbO
размер скана 5х5

мкм

Микроскопия поперечных силСегнетоэлектрические пленки PZT 30/70 +10 PbOразмер скана 5х5 мкм

Слайд 24Микроскопия поперечных сил
Гидратные пленки на основе Al
размер скана 8х8

мкм

Микроскопия поперечных силГидратные пленки на основе Al размер скана 8х8 мкм

Слайд 25Микроскопия модуляции сил
При сканировании на кантилевер подается переменная нагрузка
частота 5 кГц
амплитуда 2-20

Å
Регистрация амплитуды изгиба кантилевера
измерение пространственного распределения микротвердости
“мягкая”
поверхность
“твердая”
поверхность

Микроскопия модуляции силПри сканировании на кантилевер подается переменная нагрузкачастота	5 кГцамплитуда	2-20 ÅРегистрация амплитуды изгиба кантилевера измерение пространственного распределения

Слайд 26Микроскопия модуляции сил
В процессе реализации Метода Модуляции Силы одновременно со

сканированием образца в соответствии с Методом Постоянной Силы сканер (или

образец) совершает вертикальные периодические колебания. При этом давление зонда на поверхность образца содержит периодическую (обычно синусоидальную) компоненту. В соответствии с локальной жесткостью образца амплитуда колебаний кантелевера будет изменяться в процессе сканирования. На жестких участках поверхности образца амплитуда будут меньше, а на мягких участках – больше
Отслеживание рельефа поверхности образца проводится с использованием усредненного изгиба кантилевера в системе обратной связи. При известной локальной жесткости можно определить модуль упругости образца.
Микроскопия модуляции силВ процессе реализации Метода Модуляции Силы одновременно со сканированием образца в соответствии с Методом Постоянной

Слайд 27Микроскопия модуляции сил
Полимерные пленки ПВХ
топография
микротвердость

Микроскопия модуляции силПолимерные пленки ПВХтопографиямикротвердость

Слайд 28Акустическая Микроскопия
Основная идея Атомно-силовой Акустической Микроскопии (АСАМ) заключается в возбуждении

колебаний находящегося в контакте с образцом атомно-силового кантилевера [1, 2].

Резонансные частоты кантилевера помимо других параметров, зависят от жесткости контакта зонд-образец и радиуса области контакта, которые в свою очередь зависят от модулей Юнга материалов образца и зонда, радиуса закругления кончика зонда, силы прижима зонда, рельефа поверхности. Этот метод позволяет определять модуль Юнга по контактной жесткости с разрешением несколько в десятков нанометров.

В процессе АСАМ измерений образец закреплен на пьезоэлектрическим преобразователе. Он возбуждает акустические колебания в образце, которые приводят к колебаниям поверхности. Колебания поверхности передаются кантилеверу через кончик зонда. Колебания кантилевера регистрируются с помощью четырехсекционного фотодетектора и подаются на синхронный усилитель. Соответствующее устройство может быть использовано для получения акустических изображений – карт распределения амплитуд колебаний кантилевера на фиксированной частоте колебаний вблизи резонанса (АСАМ отображение). АСАМ изображения отображают распределение поверхностной жесткости образца. Это устройство также может быть использовано для определения спектра колебаний кантилевера
Акустическая МикроскопияОсновная идея Атомно-силовой Акустической Микроскопии (АСАМ) заключается в возбуждении колебаний находящегося в контакте с образцом атомно-силового

Слайд 29Колебательные АСМ методики
Полуконтактная (tapping) АСМ
Бесконтактная АСМ
Топография
Фазовый контраст
Слабая зависимость силы от

расстояния 
модуляционная техника для повышения чувствительности

Уменьшается механическое воздействие зонда на

поверхность

Открываются новые возможности АСМ по исследованию свойств поверхности
Колебательные АСМ методикиПолуконтактная  (tapping) АСМБесконтактная  АСМТопографияФазовый контрастСлабая зависимость  силы от расстояния модуляционная техника

Слайд 30Вынужденные колебания кантилевера вблизи резонанса с амплитудой ~ 10 ÷ 100

нм
кантилевер касается поверхности в нижнем полупериоде колебаний
амплитуда и фаза колебаний

кантилевера зависят от степени взаимодействия зонда с поверхностью в нижней точке колебаний
Формирование изображения
регистрация изменений амплитуды и фазы колебаний кантилевера
система ОС поддерживает постоянной амплитуду колебаний кантилевера
напряжение на z-сканере пропорционально рельефу поверхности
распределению фазового контраста соответствует изменение фазы колебаний кантилевера

Полуконтактная АСМ

Вынужденные колебания кантилевера  вблизи резонанса с амплитудой	~ 10 ÷ 100 нмкантилевер касается поверхности  в нижнем

Слайд 31Сравнение с контактной АСМ
Меньше риск повредить зонд
Меньшее влияние на поверхность
возможность

работы с «мягкими» образцами
Сильное влияние адсорбционного слоя
Полуконтактная мода
повышает разрешение
«протыкает» адсорбционный

слой

контактная АСМ

бесконтактная АСМ

Сравнение с контактной АСММеньше риск повредить зондМеньшее влияние на поверхностьвозможность работы с «мягкими» образцамиСильное влияние адсорбционного слояПолуконтактная

Слайд 32Примеры АСМ изображений
Коллоидное золото
20 мкм х 20 мкм
Кристаллизация монослоя
оксида полиэтилена
14

мкм х 14 мкм
Топография (полуконтактная АСМ)

Примеры АСМ изображенийКоллоидное золото20 мкм х 20 мкмКристаллизация монослояоксида полиэтилена14 мкм х 14 мкмТопография (полуконтактная АСМ)

Слайд 33Примеры АСМ изображений
5 мкм х 5 мкм
Трехфазная полимерная пленка (PMMA)
Топография Фазовый

контраст
Полуконтактная мода

Примеры АСМ изображений5 мкм х 5 мкмТрехфазная полимерная пленка (PMMA)Топография	Фазовый контрастПолуконтактная мода

Слайд 34Микроскопия магнитных сил
Зонд с ферромагнитным покрытием (Co)
Двухпроходная методика
1 проход рельеф поверхности

в полуконтактном режиме
2 проход зонд движется на высоте z0=const над образцом

по траектории, соответствующей рельефу
Изменение амплитуды или фазы колебаний кантилевера на 2ом проходе  МСМ изображение
Микроскопия магнитных силЗонд с ферромагнитным покрытием (Co)Двухпроходная методика1 проход	рельеф поверхности в полуконтактном режиме2 проход	зонд движется на высоте

Слайд 35Микроскопия магнитных сил
MFM
nc-AFM
Изменение МСМ сигнала при удалении от поверхности (тестовый

образец)

Микроскопия магнитных силMFMnc-AFMИзменение МСМ сигнала при удалении от поверхности (тестовый образец)

Слайд 36Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Качество МСМ изображения
Магнитостатическая сила зависит

от  доменной структуры на поверхности образца  толщины ферромагнитного покрытия

зонда  ориентации доменов в зонде
 магнитных качеств зонда
Интерпретация результатов может усложняться в результате переориентации намагниченности  зонда под действием поверхности  поверхности под действием зонда

Выбор материала зонда с высоким коэрцитивным полем и большой магнитной анизотропией
Сканирование при достаточном расстоянии между зондом и поверхностью

Условия стабильности доменной структуры

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииКачество МСМ изображенияМагнитостатическая сила зависит от   доменной структуры на поверхности

Слайд 37Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Примеры МСМ изображений
1.85 мкм х

1.85 мкм
Пермаллоевые капли
МСМ
бк-АСМ

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииПримеры МСМ изображений1.85 мкм х 1.85 мкмПермаллоевые каплиМСМбк-АСМ

Слайд 38Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Примеры МСМ изображений
Магнитные биты
30 мкм

х 30 мкм
2.3 мкм х 2.3 мкм

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииПримеры МСМ изображенийМагнитные биты30 мкм х 30 мкм2.3 мкм х 2.3 мкм

Слайд 39Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Примеры МСМ изображений
Магнитные частицы, покрытые

тонкой пленкой
9 мкм х 9 мкм
MFM
nc-AFM

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииПримеры МСМ изображенийМагнитные частицы, покрытые тонкой пленкой9 мкм х 9 мкмMFMnc-AFM

Слайд 40Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Примеры МСМ изображений
80 мкм х

80 мкм
Магнитные домены в сталях
10 мкм х 10 мкм

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииПримеры МСМ изображений80 мкм х 80 мкмМагнитные домены в сталях10 мкм х

Слайд 41Электрические методики СЗМ
Слабое взаимодействие – модуляционная техника для повышения

чувствительности
механическая модуляция – переменное напряжение на пьезоприводе – механические колебания

кантилевера
электрическая модуляция – переменное напряжение на проводящем зонде
комбинированные методы
Двухпроходная методика
1 проход рельеф поверхности в полуконтактном режиме
2 проход зонд движется на высоте z0=const над образцом по траектории, соответствующей рельефу  изменение силы взаимодействия определяет электрические свойства

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии

Электрические методики СЗМ Слабое взаимодействие – модуляционная техника для повышения чувствительностимеханическая модуляция – переменное напряжение на пьезоприводе

Слайд 42Электрические методики СЗМ
Контактные электрические методики
сканирующая микроскопия сопротивления растекания
контактная сканирующая

емкостная микроскопия
силовая микроскопия пьезоэлектрического отклика
сканирующая микроскопия нелинейной диэлектрической проницаемости
Двухпроходные электрические

методики
электрическая силовая микроскопия
микроскопия поверхностного потенциала (метод зонда Кельвина)
сканирующая емкостная микроскопия

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии

Электрические методики СЗМ Контактные электрические методикисканирующая микроскопия сопротивления растеканияконтактная сканирующая емкостная микроскопиясиловая микроскопия пьезоэлектрического откликасканирующая микроскопия нелинейной

Слайд 43Электрические методики СЗМ
Основные принципы работы
Электростатическое взаимодействие между проводящим зондом

и заряженными областями вблизи поверхности образца
Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой

микроскопии
Электрические методики СЗМ Основные принципы работыЭлектростатическое взаимодействие между проводящим зондом и заряженными областями вблизи поверхности образцаИсследование наноматериалов

Слайд 44Микроскопия Пьезоотклика
Основная идея Силовой Микроскопии Пьезоотклика заключается в локальном воздействии

на пьезоэлектрический образец переменного электрического поля и анализе результирующих колебаний

его поверхности под зондом
Микроскопия ПьезооткликаОсновная идея Силовой Микроскопии Пьезоотклика заключается в локальном воздействии на пьезоэлектрический образец переменного электрического поля и

Слайд 45Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Силовая микроскопия пьезоотклика
Исследование доменной структуры

сегнетоэлектриков
Домены разных знаков отличаются знаком пьезо-коэффициентов
Поверхность над доменами разного знака

будет колебаться в противофазе

Фрактальная лабиринтовая исходная доменная структура германата свинца

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииСиловая микроскопия пьезооткликаИсследование доменной структуры сегнетоэлектриковДомены разных знаков отличаются знаком пьезо-коэффициентовПоверхность над

Слайд 46Электрическая силовая микроскопия
Независимое измерение топографии
Механические колебания кантилевера на резонансной частоте

при постоянной разности потенциалов
Регистрация локальных изменений резонансной частоты, амплитуды или фазы

колебаний за счет электростатического взаимодействия

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии

Аморфные биты на DVD-RW диске

Топография

ЭСМ

5 х 5 мкм

Электрическая силовая микроскопияНезависимое измерение топографииМеханические  колебания  кантилевера на  резонансной частоте  при постоянной

Слайд 47Отображение Сопротивления Растекания
Отображение Сопротивления Растекания возможно при использовании проводящего зонда

ССМ, находящегося в контакте с поверхностью образца [1].
К

зонду прикладывается напряжение смещение и проводятся измерения результирующего тока через образец в зависимости от положения зонда одновременно с получением данных о рельефе по Методу Постоянной Силы.

Как легко показать в предположении постоянного контактного сопротивления зонд-поверхность при заданном смещении величина измеряемого тока пропорциональна локальному сопротивлению исследуемого образца.

Отображение Сопротивления Растекания может быть использовано и при анализе сложных структур, таких, например, как интегральные схемы.
Отображение Сопротивления РастеканияОтображение Сопротивления Растекания возможно при использовании проводящего зонда ССМ, находящегося в контакте с поверхностью образца

Слайд 48Сканирующая микроскопия сопротивления растекания
Контактная AFM мода
При сканировании прикладывается разность потенциалов

Vdc и измеряется ток в цепи I(x,y)
Строится распределение электрического сопротивления

R(x,y)=Vdc/I(x,y)
“Смешаны” топография и электрические свойства

Топография

СМСР

Сканирующая микроскопия  сопротивления растеканияКонтактная AFM модаПри сканировании прикладывается  разность потенциалов  Vdc и измеряется

Слайд 49Электрическая силовая микроскопия
Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Тестирование интегральных схем

(SRAM)
ЭСМ
Топография

Электрическая силовая микроскопияИсследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииТестирование интегральных схем (SRAM)ЭСМТопография

Слайд 50Метод зонда Кельвина
Сила взаимодействия зонда с поверхностью приближенно описывается формулой:
где

Vtip – потенциал, создаваемый на зонде:
Отклик на первой гармонике:
Введение обратной

связи F1=0 позволяет измерять поверхностный потенциал Vsurf=Vdc

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии

Метод зонда КельвинаСила взаимодействия зонда с поверхностью приближенно описывается формулой:где Vtip – потенциал, создаваемый на зонде:Отклик на

Слайд 51Метод зонда Кельвина
Независимое измерение топографии
При измерении потенциала поверхности обратная связь

осуществляется за счет изменения Vdc при условии F1=0
Строится изображение распределения

Vdc(x,y), соответствующее распределению поверхностного потенциала Vsurf(x,y)

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии

В реальности подача переменного напряжения на зонд, в случае наличия потенциала на поверхности, приводит к возникновению дипольного взаимодействия и соответственно к механическим колебаниям кантелевера. В когда Vdc(x,y), равно Vsurf(x,y) дипольное взаимодействие минимально и колебания кантелевера минимальны. То есть подборов напряжения обусловлен выбором минимума колебаний.

Исследования распределения потенциала по поверхности может использоваться для исследования участков начального зарождения коррозии

Метод зонда КельвинаНезависимое измерение топографииПри измерении потенциала поверхности обратная  связь осуществляется за счет изменения Vdc при

Слайд 52Механическая разновидность зонда Кельвина
Для исследования коррозии
Зонд и образец образуют конденсатор.

В условиях существующей разницы потенциалов механические колебания зонда приводят к

изменению емкости конденсатора и протеканию тока. Величина тока зависит от разницы потенциалов. Подбирая потенциал в зонда каждой точке можно компенсировать потенциал поверхности, что приводит к исчезновению тока. Таким образом строится карта распределения потенциала по поверхности. В большинстве случав интересуются относительным изменением потенциала поверхности. Чтобы избежать нежелательного влияния поверхностного потенциала зонда используют материалы с постоянным поверхностным потенциалом, например зонд из протравленного Ni/Cr. Калибровка зонда выполняется измерением коррозионного потенциала с обычным референсным электродом который касается электролита покрывающего поверхность исследуемого образца.
Механическая разновидность зонда КельвинаДля исследования коррозииЗонд и образец образуют конденсатор. В условиях существующей разницы потенциалов механические колебания

Слайд 53Профиль высоты и потенциала измеренный с помощью зонда Кельвина на

поверхности железа с каплей водного раствора NaCl

Профиль высоты и потенциала измеренный с помощью зонда Кельвина на поверхности железа с каплей водного раствора NaCl

Слайд 54Метод зонда Кельвина
Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Электрический потенциал на

поверхности двухкомпонентной пленки Ленгмюра-Блоджетта
Метод зонда Кельвина
6 х 6 мкм
Топография

Метод зонда КельвинаИсследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииЭлектрический потенциал на поверхности  двухкомпонентной пленки Ленгмюра-БлоджеттаМетод зонда Кельвина6

Слайд 55Сканирующая емкостная микроскопия
Измерение производится аналогично методу зонда Кельвина
Измеряемая величина –

амплитуда сигнала второй гармоники:
Измерение емкости может проводиться непосредственно с помощью

моста. При F2w=const полезным сигналом будет сигнал рассогласования моста подаваемый в систему обратной связи

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии

Сканирующая емкостная микроскопияИзмерение производится аналогично методу зонда КельвинаИзмеряемая величина – амплитуда сигнала второй гармоники:Измерение емкости может проводиться

Слайд 56Конденсатор MOS сформирован зондом SCM и полупроводниковым образцом

Конденсатор MOS сформирован зондом SCM и полупроводниковым образцом

Слайд 57Зависимость
емкости и
дифференциальной емкости от напряжения DС для полупроводников

n-типа и p-типа.

Зависимость емкости и дифференциальной емкости от напряжения DС для полупроводников n-типа и p-типа.

Слайд 58Положительные и отрицательные заряды в изоляторе и полупроводнике вызывают параллельный

сдвиг в высокочастотной кривой C-V и dC/dV вдоль оси напряжений.


На рисунке показано, что положительные и отрицательные захваченные заряды вызывают сдвиг кривых C-V и dC/dV влево и вправо соответственно.

Положительные и отрицательные заряды в изоляторе и полупроводнике вызывают параллельный сдвиг в высокочастотной кривой C-V и dC/dV

Слайд 59схема измерения dC/dV для полупроводникового образца p-типа. Переменное напряжение создает

вариацию емкости при фиксированном постоянном напряжении. Синхронный усилитель способен обнаружить

изменение амплитуды и фазы в сигнале емкости при одинаковой частоте переменного напряжения AC при заданном постоянном напряжении. Таким образом, выходной сигнал усилителя пропорционален наклону кривой С-V при заданном постоянном напряжении. Поэтому данный сигнал равен дифференциальной емкости (dC/dV). Микроскоп SCM обнаруживает дифференциальную емкость при фиксированном постоянном напряжении и переменном напряжении смещения в тот момент, когда зонд пересекает области с концентрацией носителей зарядов.
схема измерения dC/dV для полупроводникового образца p-типа. Переменное напряжение создает вариацию емкости при фиксированном постоянном напряжении. Синхронный

Слайд 60Схема зонда XE SCM с переменной рабочей частотой

Схема зонда XE SCM с переменной рабочей частотой

Слайд 61Резонансные кривые разных материалов
Изменение емкости в паре «зонд-образец»

Резонансные кривые разных материалов Изменение емкости в паре «зонд-образец»

Слайд 62Сканирующая емкостная микроскопия
Измеряемая величина локальной емкости определяется
локальной диэлектрической проницаемостью
пространственным распределением

носителей заряда
толщиной диэлектрического слоя
геометрией поверхностей образца и зонда
Основное применение SCM
тестирование

полупроводниковых устройств
определение толщины оксидных поверхностных слоев
распределение примеси

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии

Сканирующая емкостная микроскопияИзмеряемая величина локальной емкости определяетсялокальной диэлектрической проницаемостьюпространственным распределением носителей зарядатолщиной диэлектрического слоягеометрией поверхностей образца и

Слайд 63(a) Топография и (b) SCM изображение полупроводниковой поверхности. Яркая область

на топографическом изображении изображает серый силиконовый диоксид – слой высотой

70 нм. Яркие круглые и округлые прямоугольные области на рисунке SCM – это зоны сильного легирования ионами As+ энергией 50 кэВ и плотностью 1014 ионов/см2
(a) Топография и (b) SCM изображение полупроводниковой поверхности. Яркая область на топографическом изображении изображает серый силиконовый диоксид

Слайд 64изображения образца с имплантированными ионами Si

изображения образца с имплантированными ионами Si

Слайд 65Сканирующая емкостная микроскопия
Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Полевой транзистор
СЕМ
Топография

Сканирующая емкостная микроскопияИсследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииПолевой транзисторСЕМТопография

Слайд 66Сканирующая тепловая спектроскопия
Использование зависимости фотолюминисценции от температуры
Использование редкоземельных ионов в

качестве излучающих частиц Er3+, Yb3+, Eu3+
Использование Родамин В в качастве

излучающего тела
Зависимость интенсивности и частоты излучения CdSe/ZnS квантовых ям от температуры

Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии

Зависимость относительной интенсивности фотолюминисценции родамина В от температуры

Зависимость фотолюменисценции PbF2 наночастиц допированных Er3+, Yb3+ от температуры –
А) спектры, б) отношение интенсивностей линий

Сканирующая тепловая спектроскопияИспользование зависимости фотолюминисценции от температурыИспользование редкоземельных ионов в качестве излучающих частиц Er3+, Yb3+, Eu3+Использование Родамин

Слайд 67Сканирующая тепловая спектроскопия
Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Температурная зависимость спектра

излучения и интенсивности от температуры для квантовых точек в системе

CdSe/ZnS

Изображение вольфрамового зонда с приклееной на конце люминисцирующей наночастицей

Сканирующая тепловая спектроскопияИсследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииТемпературная зависимость спектра излучения и интенсивности от температуры для квантовых

Слайд 68Сканирующая тепловая спектроскопия
Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Схема установки для

СТоМ
Лазер на 975 нм –возбуждает фотолюменисценцию. Регистрируются 2 длинны волны

раздельно 520 и 550 нм. Синхронный детектор выделяет частоту задаваемую колебаниями зонда.

Схема узла зонда. Амплитуда колебаний регистрируется фотодиодом по прерыванию лазерного луча. ОС поддерживает частоту колебаний =const

Сканирующая тепловая спектроскопияИсследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииСхема установки для СТоМЛазер на 975 нм –возбуждает фотолюменисценцию. Регистрируются

Слайд 69Сканирующая тепловая спектроскопия
Исследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопии
Пример получения распределения

температуры в образце с полоской поликристаллического кремния при протекании тока

Сканирующая тепловая спектроскопияИсследование наноматериалов методами сканирующей зондовой микроскопииПример получения распределения температуры в образце с полоской поликристаллического кремния

Обратная связь

Если не удалось найти и скачать доклад-презентацию, Вы можете заказать его на нашем сайте. Мы постараемся найти нужный Вам материал и отправим по электронной почте. Не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникли вопросы или пожелания:

Email: Нажмите что бы посмотреть 

Что такое TheSlide.ru?

Это сайт презентации, докладов, проектов в PowerPoint. Здесь удобно  хранить и делиться своими презентациями с другими пользователями.


Для правообладателей

Яндекс.Метрика